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J-GLOBAL ID：201103041028276593

構造因子テンソル要素決定法及びそのためのX線回折装置利用法

Inventor： 大隅 寛幸 ,  高田 昌樹 ,  壽榮松 宏仁 ,  藤縄 剛
Applicant, Patent owner： 財団法人高輝度光科学研究センター ,  株式会社リガク
Agent (6)： 小野 新次郎 ,  社本 一夫 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  平山 晃二
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2004071667
Publication number (International publication number)：2005227251
Patent number：4578832
Application date： Feb. 13, 2004
Publication date： Aug. 25, 2005
Claim (excerpt)：

【請求項1】 偏光解析結晶を使用して散乱の各チャネル(σ偏光→σ偏光、σ偏光→π偏光、π偏光→σ偏光、π偏光→π偏光)の散乱振幅を個別に調べる代わりに、偏光方向を制御した直線偏光のX線を試料に入射し、その入射偏光を変化させつつ試料から発生する各チャネルからの寄与が合成された散乱振幅の自乗量である散乱X線強度を回折計を使用して測定し、その散乱X線強度の入射偏光に対する依存性を解析することにより、試料の構造因子テンソルを決定する方法。

IPC (1)：

G01N 23/20 ( 200 6.01)

FI (1)：

G01N 23/20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• X線偏光分析器及びそのX線偏光分析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-343259   Applicant：日本電気株式会社
• 残留オーステナイト体積率の定量方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-286372   Applicant：住友金属工業株式会社
• 材料の結晶構造評価法、および耐候性に優れた鋼材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-118774   Applicant：新日本製鐵株式会社
• X線装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-142469   Applicant：理学電機株式会社
• X線計測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-113027   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開平1-274048
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• SPring-8年報2001年度, 94