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J-GLOBAL ID：201103053478907702

液体金属ターゲット用旋回流型マイクロバブル発生装置および流体装置

Inventor： 阿部 敏達 ,  粉川 広行 ,  二川 正敏 ,  直江 崇 ,  羽賀 勝洋 ,  長谷川 勝一 ,  浦野 裕太
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 筑波大学 ,  独立行政法人 日本原子力研究開発機構 ,  株式会社 エール・オー
Agent (1)： 森 幸一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010015204
Publication number (International publication number)：2011153894
Application date： Jan. 27, 2010
Publication date： Aug. 11, 2011
Summary：

【課題】液体金属ターゲットの液体金属が流される容器内の液体金属中に所望の大きさのマイクロバブルを所望の濃度でしかも効率的に発生させることができ、パルス陽子ビームの入射により容器内の液体金属中に発生する圧力波の大幅な低減を図ることができる液体金属ターゲット用旋回流型マイクロバブル発生装置を提供する。【解決手段】液体金属ターゲット用旋回流型マイクロバブル発生装置33は、液体金属が流される管路にこの管路を閉塞するように設けられる閉塞部材31と、この閉塞部材31の複数箇所にこの閉塞部材31を貫通して設けられた複数の旋回流型マイクロバブル発生器32とを有する。旋回流型マイクロバブル発生器32としては、旋回流発生用翼型ノズルと、この旋回流発生用翼型ノズルと同軸に結合された、縮流部と渦崩壊部とを有する渦崩壊用ノズルとを有するものを用いる。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

液体金属が流される管路に上記管路を閉塞するように設けられる閉塞部材と、 上記閉塞部材の複数箇所に上記閉塞部材を貫通して設けられた複数の旋回流型マイクロバブル発生器とを有する液体金属ターゲット用旋回流型マイクロバブル発生装置。

IPC (4)：

G21K 5/08 ,  B01F 5/00 ,  B01F 3/04 ,  H05H 6/00

FI (4)：

G21K5/08 N ,  B01F5/00 G ,  B01F3/04 C ,  H05H6/00

F-Term (4)：

2G085BA17 ,  4G035AB18 ,  4G035AC44 ,  4G035AE13

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 入浴器具
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-146049   Applicant：株式会社多自然テクノワークス, 矢山利彦
• 中空金属焼結体、それを利用した中性子源液体金属ターゲット用バブラー及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-056017   Applicant：独立行政法人日本原子力研究開発機構, 国立大学法人茨城大学, 国立大学法人東北大学, 株式会社アライドマテリアル
• 中性子発生装置用液体ターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-022979   Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (3)

• 入浴器具
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-146049   Applicant：株式会社多自然テクノワークス, 矢山利彦
• 中空金属焼結体、それを利用した中性子源液体金属ターゲット用バブラー及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-056017   Applicant：独立行政法人日本原子力研究開発機構, 国立大学法人茨城大学, 国立大学法人東北大学, 株式会社アライドマテリアル
• 中性子発生装置用液体ターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-022979   Applicant：株式会社日立製作所