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J-GLOBAL ID:201103059066687196
N,N,N’,N’-テトラメチルヘキサン-1,6-ジアミンと第1級または第2級アミン官能基を有する特定のアミンとに基づく吸収溶液、およびガス状流出物から酸性化合物を除去する方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
宮崎 昭夫
, 石橋 政幸
, 緒方 雅昭
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2011520542
Publication number (International publication number):2011528993
Application date: Jul. 21, 2009
Publication date: Dec. 01, 2011
Summary:
本発明は、CO2等の酸性ガスの吸収条件下で単一層の吸収溶液を得ることができる、特定の第1級または第2級アミンとともに配合されたN,N,N’,N’-テトラメチルヘキサン-1,6-ジアミンの水溶液を使用した吸収方法における、ガス状流出物からの酸性化合物の除去に関する。本発明は、天然ガスおよび産業起源のガスの処理に有利に適用される。
Claim (excerpt):
ガス状流出物の酸性化合物を吸収するための吸収溶液であって、
a)水と、
b)少なくとも1種の式(I)のアミン(N,N,N’,N’-テトラメチルヘキサン-1,6-ジアミン)と、
IPC (9):
B01D 53/14
, C10L 3/10
, C10K 1/14
, B01D 53/62
, B01D 53/52
, B01D 53/77
, B01D 53/48
, C01B 31/20
, C01B 17/16
FI (9):
B01D53/14 102
, C10L3/00 B
, C10K1/14
, B01D53/34 135Z
, B01D53/34 127B
, B01D53/34 121B
, B01D53/34 121C
, C01B31/20 B
, C01B17/16 N
F-Term (37):
4D002AA03
, 4D002AA04
, 4D002AA06
, 4D002AA09
, 4D002AB01
, 4D002AC05
, 4D002AC10
, 4D002BA02
, 4D002DA31
, 4D002EA08
, 4D002FA01
, 4D002GA01
, 4D002GB04
, 4D002GB11
, 4D002HA01
, 4D002HA08
, 4D020AA03
, 4D020AA04
, 4D020AA08
, 4D020BA16
, 4D020BB03
, 4D020BC01
, 4D020CC09
, 4D020DA03
, 4D020DB04
, 4D020DB06
, 4G146JA02
, 4G146JB09
, 4G146JB10
, 4G146JC07
, 4G146JC08
, 4G146JC28
, 4H060AA01
, 4H060AA04
, 4H060BB23
, 4H060DD02
, 4H060FF04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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