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J-GLOBAL ID：201103060464569410

ステージ制御装置、ステージ制御方法、ステージ制御プログラム及び顕微鏡

Inventor： 山本 隆司 ,  木島 公一朗 ,  成澤 龍 ,  広野 遊 ,  鈴木 文泰
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 田辺 恵基
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010146745
Publication number (International publication number)：2011150277
Application date： Jun. 28, 2010
Publication date： Aug. 04, 2011
Summary：

【課題】被写界深度を代えずに、サンプルに対する像の取得効率を向上させ得るステージ制御装置、ステージ制御方法、ステージ制御プログラム及び顕微鏡を提案する。【解決手段】撮影範囲に割り当てられる組織切片の全部位の位相差像を取得し、各位相差像から視差を算出する。そして、各位相差像から算出した視差を用いて、組織切片の傾斜角度を算出し、この傾斜角度をもとに、撮影画像の画角内での傾斜が最も小さい状態となるようプレパラート配置面の傾斜角度を調整する。【選択図】図10

Claim (excerpt)：

撮影対象とされるサンプルの全部又は一部における異視点となる1組の像を取得する取得手段と、 上記1組の像において基準とすべき一方の像の画素ごとに、他方の像で相対する画素との間の距離を算出する距離算出手段と、 上記距離算出手段により算出される距離を用いて、上記サンプルの傾斜角度を算出する傾斜角算出手段と、 上記サンプルの傾斜角度をもとに、撮影画像の画角内での傾斜が最も小さい状態となるように、上記サンプルが配されるステージ面の傾斜角度を調整する調整手段と を有するステージ制御装置。

IPC (1)：

G02B 21/24

FI (1)：

G02B21/24

F-Term (5)：

2H052AA07 ,  2H052AC05 ,  2H052AD20 ,  2H052AD22 ,  2H052AF25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 変位検出装置および焦点検出装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-232976   Applicant：株式会社ニコン
• 試料を結像する際の焦点位置を決定するための方法およびセット・アップ
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-505285   Applicant：カールツァイスイェナゲーエムベーハー
• 露光方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-226426   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開昭60-103323
  
• 拡大倍率撮像装置におけるオートフォーカス装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-199269   Applicant：シャープ株式会社
• 自動合焦装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-115376   Applicant：オリンパス株式会社