光学式ガス分析装置、ガス分析方法及び分析装置制御方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：酒井宏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009295984
Publication number (International publication number)：2011137645
Application date： Dec. 25, 2009
Publication date： Jul. 14, 2011
Summary：

【課題】より高い精度でガスを分析することができる光学式ガス分析装置を提供することにある。【解決手段】測定対象のガスが流れる計測セルと、レーザ光を射出する発光部と、発光部から射出されたレーザ光を計測セルに案内する光学系と、光学系から入射され、計測セルを通過したレーザ光を受光する受光部と、受光部で取得した情報に基づいて、計測セルを流れるガスを分析する分析部と、光学系の温度を調整する温度調整手段と、を有することで上記課題を解決する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

測定対象のガスが流れる計測セルと、レーザ光を射出する発光部と、前記発光部から射出されたレーザ光を前記計測セルに案内する光学系と、前記光学系から入射され、前記計測セルを通過したレーザ光を受光する受光部と、前記受光部で取得した情報に基づいて、前記計測セルを流れるガスを分析する分析部と、前記光学系の温度を調整する温度調整手段と、を有することを特徴とする光学式ガス分析装置。

IPC (1)：

G01N 21/35

FI (1)：

G01N21/35 Z

F-Term (22)：

2G059AA01 , 2G059BB01 , 2G059CC04 , 2G059CC05 , 2G059EE01 , 2G059EE11 , 2G059FF09 , 2G059GG01 , 2G059GG03 , 2G059HH01 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ17 , 2G059JJ22 , 2G059JJ25 , 2G059KK01 , 2G059KK03 , 2G059KK09 , 2G059MM01 , 2G059NN02 , 2G059NN06 , 2G059NN08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

ガス濃度計測装置及び燃焼炉
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-245257 Applicant：三菱重工業株式会社
特開昭52-100276
粒子測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-409214 Applicant：シスメックス株式会社

Show all

Return to Previous Page