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J-GLOBAL ID：201103083496648168

半導体記憶装置

Inventor： 三木 浩史 ,  中井 浩巳 ,  櫛田 惠子 ,  嶋本 泰洋 ,  ▲高▼谷 信一郎 ,  藤崎 芳久
Applicant, Patent owner： 株式会社ルネサステクノロジ
Agent (1)： ポレール特許業務法人
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2005322352
Publication number (International publication number)：2006066934
Patent number：4500248
Application date： Nov. 07, 2005
Publication date： Mar. 09, 2006
Claim (excerpt)：

【請求項1】 能動素子と、 第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に設けられている高強誘電体膜有するコンデンサと、 前記能動素子と前記コンデンサとの間に設けられている層間絶縁膜と、 前記層間絶縁膜と前記コンデンサとの間に設けられている水素拡散バリア層と、 前記水素拡散バリア層に接続され、前記水素拡散バリア層とで前記コンデンサを囲むように配置されている水素吸着阻止層を有し、 前記水素拡散バリア層は、アルミニウム又はセリウムの酸化物を主成分とする材料からなることを特徴とする半導体記憶装置。

IPC (2)：

H01L 21/8246 ( 200 6.01) ,  H01L 27/105 ( 200 6.01)

FI (2)：

H01L 27/10 444 B ,  H01L 27/10 444 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 強誘電体メモリ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-254378   Applicant：オリンパス光学工業株式会社, シメトリックス・コーポレーション
• 半導体装置及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-116221   Applicant：エヌ・ベー・フィリップス・フルーイランペンファブリケン
• 特開平4-102367
  
• 特開平2-128424