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J-GLOBAL ID:201103095216855366
集合体粒子の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (6):
大谷 保
, 東平 正道
, 片岡 誠
, 平澤 賢一
, 時田 稔
, 伊藤 高志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010029355
Publication number (International publication number):2011162416
Application date: Feb. 12, 2010
Publication date: Aug. 25, 2011
Summary:
【課題】金属酸化物、金属含水酸化物または金属水酸化物のナノ粒子が集合して形成される、マイクロメートルオーダーの平均粒子径を有し、粒度分布が狭い(粒子径が揃った)集合体粒子を、高速で、かつ環境への影響を少なくして製造する方法を提供する。【解決手段】高密度二酸化炭素と、金属酸化物、金属含水酸化物または金属水酸化物のナノ粒子の水分散液とを混合して混合体を形成するステップと、ノズルから当該混合体を噴射させて氷滴粒子を得るステップと、当該氷滴粒子から乾燥により水分を除去するステップとを含む、ナノ粒子が集合して形成される平均粒子径が0.1〜5μmの集合体粒子の製造方法である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
高密度二酸化炭素と、金属酸化物、金属含水酸化物または金属水酸化物のナノ粒子の水分散液とを混合して混合体を形成するステップと、ノズルから当該混合体を噴射させて氷滴粒子を得るステップと、当該氷滴粒子から乾燥により水分を除去するステップとを含む、ナノ粒子が集合して形成される平均粒子径が0.1〜5μmの集合体粒子の製造方法。
IPC (4):
C01G 25/02
, C01G 23/053
, C01G 9/02
, C01F 17/00
FI (4):
C01G25/02
, C01G23/053
, C01G9/02 B
, C01F17/00 A
F-Term (29):
4G047AA02
, 4G047AB02
, 4G047AB04
, 4G047AC03
, 4G047AD03
, 4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CB08
, 4G047CC03
, 4G047CD03
, 4G048AA02
, 4G048AB03
, 4G048AC08
, 4G048AD03
, 4G048AE05
, 4G076AA02
, 4G076AB03
, 4G076AB06
, 4G076BA27
, 4G076BA30
, 4G076BA43
, 4G076BA47
, 4G076BE09
, 4G076CA02
, 4G076CA26
, 4G076DA01
, 4G076DA15
, 4G076DA25
, 4G076DA30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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光触媒及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-333846
Applicant:株式会社ノリタケカンパニーリミテド, 株式会社光触媒研究所
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複合化粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-093457
Applicant:花王株式会社
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無機微粒子コーティング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-112577
Applicant:三島健司, 神島化学工業株式会社
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