Pat
J-GLOBAL ID:201103095267456679
空間位相フィーチャ・ロケーション
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
山川 政樹
, 山川 茂樹
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2010536933
Publication number (International publication number):2011509516
Application date: Dec. 05, 2008
Publication date: Mar. 24, 2011
Summary:
基板上のアラインメント・マークを突き止める方法を説明する。一般に、基板は、基板アラインメント・マークに隣接する1つまたは複数のロケータ・マークを含む。ロケータ・マークは、減らされた大きさの相対変位を伴ってリソグラフィ・システム内で基板をテンプレートと位置合わせするのに基板アラインメント・マークを使用できるように、基板アラインメント・マークの相対ロケーションを提供する。
Claim (excerpt):
モールド、複数のアラインメント・マーク、および複数のロケータ・マークを有するテンプレートを、リソグラフィ・システム内で基板に位置合わせする方法であって、
前記リソグラフィ・システムには、複数の調整可能なアラインメント測定ユニットを有するアラインメント・システムが含まれ、そのリソグラフィ・システム内でテンプレートを位置決めすることと、
少なくとも1つのアラインメント測定ユニットによって、イメージ・フレームを提供することと、
前記提供されるイメージ・フレーム内で少なくとも1つのテンプレート・アラインメント・マークおよび1つのテンプレート・ロケータ・マークを提供するために前記アラインメント測定ユニットを調整することと、
基板がテンプレートと重ね合わされるように、リソグラフィ・システム内で基板を位置決めすることと、
テンプレート・アラインメント・マークのロケーションを提供するために前記イメージ・フレーム内のロケータ・マークのロケーションを決定することと、
テンプレート・アラインメント・マークを使用してテンプレートを基板に位置合わせすることと
を含む、方法。
IPC (4):
H01L 21/027
, G03F 7/20
, B29C 33/30
, B29C 43/32
FI (5):
H01L21/30 502D
, H01L21/30 502M
, G03F7/20 501
, B29C33/30
, B29C43/32
F-Term (35):
2H097AA20
, 2H097KA03
, 2H097KA12
, 2H097KA13
, 2H097KA20
, 2H097KA40
, 2H097LA10
, 4F202AG05
, 4F202CA01
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CR06
, 4F204AA36
, 4F204AH05
, 4F204AH63
, 4F204AH73
, 4F204AJ02
, 4F204AJ03
, 4F204AJ06
, 4F204AJ09
, 4F204AP06
, 4F204AR07
, 4F204FA01
, 4F204FB01
, 4F204FF48
, 4F204FF49
, 4F204FN26
, 4F204FN30
, 4F204FQ11
, 4F204FQ15
, 5F046AA28
, 5F046EA03
, 5F046EA07
, 5F046FA10
, 5F046FA17
Patent cited by the Patent:
Return to Previous Page