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J-GLOBAL ID：201103097546458579

スルホニウム塩開始剤

Inventor： パスカル アヨ ,  山戸 斉 ,  朝倉 敏景
Applicant, Patent owner： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア
Agent (8)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  高橋 佳大 ,  星 公弘 ,  二宮 浩康 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2010528346
Publication number (International publication number)：2011501744
Application date： Sep. 22, 2008
Publication date： Jan. 13, 2011
Summary：

式(I)で示され、式中、L1、L’1、L"1、L2、L’2、L"2、L3、L’3、L"3、L4、L’4及びL"4は、例えば水素又はCOTであり;R、R’及びR"は、例えば水素、C6〜C12アリール又はC3〜C20ヘテロアリールであり;X、X’及びX"は、O、S、単結合、NRa又はNCORaであり;Tは、例えば水素、C1〜C20アルキル、C3〜C12シクロアルキル、C2〜C20アルケニル、C5〜C12シクロアルケニル、C7〜C18シクロアルキレンアリール、C5〜C18シクロアルキレンヘテロアリール、C6〜C14アリールであるが、R、R’又はR"の内の少なくとも1つは、非置換又は置換C3〜C20ヘテロアリールであり;及びYは、無機又は有機アニオンである化合物は、光潜在性酸発生剤として適切である。

Claim (excerpt)：

式I

IPC (8)：

C07D 307/82 ,  C07D 333/34 ,  C07D 333/32 ,  C07D 333/22 ,  C07D 333/64 ,  C07D 307/83 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/004

FI (8)：

C07D307/82 ,  C07D333/34 ,  C07D333/32 ,  C07D333/22 ,  C07D333/64 ,  C07D307/83 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/004 503A

F-Term (14)：

2H125AE12P ,  2H125AF17P ,  2H125AF45P ,  2H125AN41P ,  2H125CB05 ,  2H125CC01 ,  2H125CC17 ,  4C023DA02 ,  4C023FA03 ,  4C037QA03 ,  4C037QA04 ,  4H039CA80 ,  4H039CD10 ,  4H039CD20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-026780   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 新規スルホニウム塩及び化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-075342   Applicant：信越化学工業株式会社
• スルホニウム塩及びレジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-019844   Applicant：信越化学工業株式会社
• 新規な光重合開始剤、それを用いた顔料分散組成物、着色光硬化性組成物、およびカラーフィルタ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-250103   Applicant：富士フイルム株式会社