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J-GLOBAL ID：201103098260279185

ガス濃度測定方法及びガス濃度測定装置

Inventor： 中本 高道 ,  池田 朋弘 ,  有本 雄美
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東京工業大学 ,  株式会社ガステック
Agent (2)： 磯野 道造 ,  多田 悦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009147207
Publication number (International publication number)：2011002400
Application date： Jun. 22, 2009
Publication date： Jan. 06, 2011
Summary：

【課題】ガス検知管を用いて、ガス濃度を精度よく(正しく)算出することができるガス濃度測定方法及びガス濃度測定装置を提供する。【解決手段】ガス検知管を用いたガス濃度測定方法であって、前記ガス検知管にガスを通気する通気工程S1と、前記ガスが通気した前記ガス検知管をカメラで撮影する撮影工程S2と、前記カメラで撮影された前記ガス検知管の画像データを解析し、当該ガス検知管の前記ガスによる変色速度を算出する変色速度算出工程S3と、湿度センサにより、前記ガスの湿度を検出する検出工程S4と、前記変色速度と前記湿度とから、前記ガスの湿度による変色分の補正をして、前記ガスの濃度を算出するガス濃度算出工程S5と、を含むことを特徴とするガス濃度測定方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

ガス検知管を用いたガス濃度測定方法であって、 前記ガス検知管にガスを通気する通気工程と、 前記ガスが通気した前記ガス検知管をカメラで撮影する撮影工程と、 前記カメラで撮影された前記ガス検知管の画像データを解析し、当該ガス検知管の前記ガスによる変色速度を算出する変色速度算出工程と、 湿度センサにより、前記ガスの湿度を検出する検出工程と、 前記変色速度と前記湿度とから、前記ガスの湿度による変色分の補正をして、前記ガスの濃度を算出するガス濃度算出工程と、 を含むことを特徴とするガス濃度測定方法。

IPC (2)：

G01N 21/78 ,  G01N 21/77

FI (2)：

G01N21/78 Z ,  G01N21/77 A

F-Term (8)：

2G054AA01 ,  2G054CE02 ,  2G054EA06 ,  2G054EB03 ,  2G054EB10 ,  2G054FA06 ,  2G054JA01 ,  2G054JA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ガス検知管撮影装置、ガス検知管測定装置、ガス濃度測定システムおよびその方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-043097   Applicant：国立大学法人東京工業大学, ラジエンスウエア株式会社