Pat
J-GLOBAL ID:200903024654333388
ガス検知管撮影装置、ガス検知管測定装置、ガス濃度測定システムおよびその方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
磯野 道造
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006043097
Publication number (International publication number):2007218878
Application date: Feb. 20, 2006
Publication date: Aug. 30, 2007
Summary:
【課題】カメラを用いて複数のガス検知管を同時に撮影する際に、安定した画像が得られるガス検知管撮影装置を提供することを目的とする。【解決手段】複数のガス検知管100を同一平面上に配列する支持部材106と、支持部材106に支持された複数のガス検知管100を照明する面発光型の照明手段103と、照明手段103と照明手段103による照明光が複数のガス検知管100を透過する透過光を撮影するカメラ110との間の空間を外光から遮光する筐体101とを備える。【選択図】図2
Claim (excerpt):
ガス検知管を透過する透過光を、2次元撮像素子を備えたカメラで撮影した画像を解析することによってガス濃度を測定するためのガス検知管撮影装置であって、
複数の前記ガス検知管を同一平面上に配列する支持部材と、
前記支持部材に支持された前記複数のガス検知管を照明する面発光型の照明手段と、
前記照明手段と、前記照明手段による照明光が前記複数のガス検知管を透過する透過光を撮影する前記カメラとの間の空間を外光から遮光する筐体と、
を備えたことを特徴とするガス検知管撮影装置。
IPC (3):
G01N 21/77
, G01N 31/22
, G01N 21/27
FI (4):
G01N21/77 A
, G01N31/22 121N
, G01N31/22 121B
, G01N21/27 A
F-Term (29):
2G042AA01
, 2G042DA08
, 2G042FA11
, 2G042FB06
, 2G042HA07
, 2G054AA01
, 2G054EA04
, 2G054FA22
, 2G054FB02
, 2G054JA00
, 2G054JA04
, 2G054JA05
, 2G054JA06
, 2G059AA01
, 2G059BB01
, 2G059CC13
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE13
, 2G059FF01
, 2G059FF12
, 2G059GG02
, 2G059KK04
, 2G059LL04
, 2G059MM01
, 2G059MM03
, 2G059MM10
, 2G059MM12
, 2G059PP06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (12)
-
検知管を用いる複数成分濃度の同時測定方法及びその測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-361949
Applicant:センス株式会社, 株式会社ラデックス, 株式会社マイクロ・テクニカ
-
環境雰囲気濃度記録装置および環境雰囲気濃度データ収集システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-138064
Applicant:日本電信電話株式会社
-
分光式特定成分センサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-394638
Applicant:松下電工株式会社
-
画像解析用セル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-053799
Applicant:日機装株式会社
-
フィルム評価方法およびフィルム評価装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-190773
Applicant:住友化学工業株式会社
-
画像読み取り装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-097164
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
試料パターン読み取り装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-085708
Applicant:日立ソフトウエアエンジニアリング株式会社
-
ガス濃度測定法、ガス濃度測定装置、及びガス濃度測定用検知管
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-293513
Applicant:国立大学法人東京工業大学
-
特公昭61-018983
-
検出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-252795
Applicant:高砂熱学工業株式会社
-
材質判別方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-014875
Applicant:富士通株式会社
-
マイクロ化学分析システム用光学系
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-158134
Applicant:住友電気工業株式会社
Show all
Return to Previous Page