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J-GLOBAL ID:201103099794636664
植物の根への酸素施用方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
横井 健至
, 横井 知理
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009255656
Publication number (International publication number):2011097888
Application date: Nov. 09, 2009
Publication date: May. 19, 2011
Summary:
【課題】 土壌栽培や水耕栽培における培土や溶液中で植物の育成に有用な根圏微生物に必要な酸素濃度の維持を図って適量の酸素を施用して植物を育成する方法を提供する。【解決手段】 例えば、外径11mm、内径8mm、長さ定尺100mの先端を閉じたポリエチレンチューブを、畝で育成中の植物の根の根圏より深い深さに、例えば約40cm程度に、堀り下げて溝を形成し、その深さの溝上記のポリエチレンチューブを埋設し、あるいは水耕栽培の浴槽の槽底に、ポリエチレンチューブを重石で押さえて配設し、次いで、酸素ボンベから高圧ガスを減圧弁で減圧して、ポリエチレンチューブに酸素を送気して、その圧力でポリエチレンチューブの管面から気体である酸素ガスを透過させ、この透過により植物の根の周囲の根圏に酸素を供給することで土壌中あるいは溶液中の根圏の有用な微生物に酸素を施用して植物を育成する方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
土壌からなる畝幅の中央部の育成植物の根の根圏より下方の位置に先端を閉じたポリエチレン製チューブを畝方向に埋設し、酸素ボンベから高圧ガスを減圧弁で減圧してポリエチレン製チューブに酸素を供給し、その供給圧力でポリエチレン製チューブの管面から酸素ガスを透過して土壌中の環境に放出することにより土壌中の根圏環境に適量の酸素を供給することを特徴とする植物の根圏へ酸素を施用して育成する方法。
IPC (2):
FI (2):
A01G7/00 602A
, A01G31/00 602
F-Term (1):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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炭酸ガス溶解能を備えた水槽
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-177571
Applicant:三菱レイヨン株式会社
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特開昭62-171620
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水質浄化装置及び水質浄化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-166332
Applicant:有限会社中島工業
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