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J-GLOBAL ID：201202224405967394   Reference number：12A1309342

レジストモデル高分子のパルスラジオリシス

Author (8)： OKAMOTO KAZUMASA (JST-CREST) ,  OKAMOTO KAZUMASA (北大 大学院) ,  FUJIYOSHI RYOKO (北大 大学院) ,  SUMIYOSHI TAKASHI (北大 大学院) ,  KOZAWA TAKAHIRO (JST-CREST) ,  KOZAWA TAKAHIRO (大阪大 産科研) ,  TAGAWA SEIICHI (JST-CREST) ,  TAGAWA SEIICHI (大阪大 産科研)
Material： 日本原子力学会秋の大会予稿集(CD-ROM)  (日本原子力学会秋の大会(CD-ROM))
Volume： 2012  Page： ROMBUNNO.K23  Publication year： Sep. 03, 2012 
JST Material Number： S0818B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *Pulse Radiolysis ,  *macromolecule ,  *resist ,  polystyrene ,  ultrathin film ,  radiation chemical reaction

JST classification (1)： Radiation-chemical reactions  (CB09020M)

Substance index (1)： 4-Vinylphenol

Terms in the title (4)： レジスト ,  モデル ,  高分子 ,  パルスラジオリシス