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J-GLOBAL ID:200901074840585796   Update date: Jul. 09, 2025

Okamoto Kazumasa

Okamoto Kazumasa
Affiliation and department:
Homepage URL  (2): http://www.sanken.osaka-u.ac.jp/labs/bms/http://www.eng.hokudai.ac.jp/labo/qsre/QSciEngjp/
Research field  (4): Quantum beam science ,  Basic physical chemistry ,  Nanomaterials ,  Nuclear engineering
Research theme for competitive and other funds  (13):
  • 2025 - 2029 Multielement Induced Opto-Critical Phases Tuned for All-Solar Utilization
  • 2025 - 2028 電離放射線に感応する有機・無機ハイブリッド水溶性レジストの開発と応用
  • 2022 - 2025 放射線プロセスによる位置制御可能なケミカルフリー水中酸化物結晶生成法の確立
  • 2020 - 2023 ガルバニック水中結晶光合成の学理構築に基づく機能性3次元ヘテロナノ構造体創製
  • 2018 - 2023 Development of single nano materials based on quantum beam and data science
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Papers (103):
  • Ryota Atarashi, Seiya Otsuka, Kazumasa Okamoto, Satoshi Tsukuda. In situ synthesis of CdSe quantum dots in polymer gels and their optical properties. Japanese Journal of Applied Physics. 2025
  • Hiroki Yamamoto, Takashi Hamada, Yusa Muroya, Kazumasa Okamoto, Shuhei Shimoda, Takahiro KOZAWA. Effect of organic ligand and metal nanocluster core structure on resist performance of inorganic-organic hybrid resist materials for EUV and EB lithography. Japanese Journal of Applied Physics. 2025
  • Kazumasa Okamoto, Yusa Muroya, Takahiro Kozawa. Dynamics of ionized poly(4-hydroxystyrene)-type resist polymers with tert-butoxycarbonyl-protecting group. Scientific reports. 2024. 14. 1. 16729-16729
  • Kouta Iwane, Hiroto Kudo, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa. Synthesis of Resist Materials Containing Hemiacetal Groups and Their Resist Sensitivity. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2024. 37. 3. 287-292
  • Riku Akabane, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Hiroto Kudo. Synthesis of Botryosin-type Resist Material Containing Acetal Groups in the Main Chain and Its Sensitivity. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2024. 37. 3. 293-298
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MISC (194):
  • 山本洋揮, 伊藤(筒井)裕子, 岡本一将, 古澤孝弘. Fundamental Study on Lithographic Characteristics of Organic-Inorganic Hybrid Resists for EUV Lithography. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2024. 85th
  • 岡本一将, 室屋裕佐, 古澤孝弘. Substituent Effects of Radical Cations on Polystyrene Derivatives Investigated by Pulse Radiolysis and Quantum Chemical Calculations. 日本原子力学会秋の大会予稿集(CD-ROM). 2024. 2024
  • 岡本一将, 山本洋揮, 山本洋揮, 古澤孝弘. Approach to Delocalization of Positive Charge on Polystyrene by Pulse Radiolysis and Simulation. 日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM). 2022. 2022
  • 塚村順平, 高橋優樹, 張麗華, ジェーム メルバート, 岡本一将, 渡辺精一. G-SPSCを用いた欠陥制御による色調表面パターニング. 日本金属学会講演大会(Web). 2021. 169th
  • 村上誉幸, 石割文崇, 岡本一将, 古澤孝弘, 佐伯昭紀. Electron Beam Irradiation Effect on Lead Halide Perovskite Solar Cell. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 68th
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Patents (6):
Professional career (1):
  • Doctor of Engineering (Osaka University)
Committee career (10):
  • 2025/07 - 現在 日本原子力学会 部会等運営委員
  • 2021/04 - 現在 日本原子力学会 加速器・ビーム科学部会 部会賞選考小委員会委員
  • 2019 - 現在 日本原子力学会 加速器・ビーム科学部会 常任委員
  • 2019 - 現在 日本原子力学会 加速器・ビーム科学部会 運営委員
  • 2010/04 - 現在 International Microprocesses and Nanotechnology Conference 論文委員
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Association Membership(s) (5):
日本原子力学会 ,  応用物理学会 ,  日本化学会 ,  日本放射線化学会 ,  SPIE(The International Society for Optical Engineering)
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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