Art

J-GLOBAL ID：201202231301756576   Reference number：12A1308651

Fabrication of mist-CVD equipment and its application to ZnO films

ミストCVD装置の製作とZnO薄膜への応用

Author (2)： MIYAKOSHI KOTARO (石川工高専) ,  SETO SATORU (石川工高専)
Material： 石川工業高等専門学校紀要  (Memoirs of National Institute of Technology, Ishikawa College)
Issue： 44  Page： 29-34  Publication year： Mar. 26, 2012 
JST Material Number： S0861A  ISSN： 0286-6110  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  *zinc oxide ,  X-ray diffraction ,  photoluminescence ,  constitution ,  electronics ,  transparent conducting thin films ,  oxide ,  thin film ,  television receiver ,  indium tin oxide ,  glass ,  covering ,  *evaporative apparatus ,  substrate temperature ,  temperature dependence ,  modification ,  vibrator ,  gas ,  electric furnace ,  substrate(plate) ,  condition ,  morphology(form) ,  surface structure ,  quality ,  characterization ,  emission spectrum
Semi thesaurus term： ITO ,  ITO glass ,  liquid crystal television receiver ,  coating ,  sapphire substrate ,  mist CVD ,  *mist chemical vapor deposition method ,  luminescence spectrum ,  crystal quality ,  zinc oxide thin film ,  oxide thin film ,  experimental condition ,  film formation ,  nitrogen gas ,  ultrasonic vibrator ,  characterization ,  surface morphology ,  atomization

JST classification (3)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Oxide thin films  (BK14050P) ,  Luminescence of semiconductors  (BM08092S)

Substance index (1)： Zinc Acetate

Terms in the title (4)： ミストCVD ,  製作 ,  ZnO薄膜 ,  応用