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J-GLOBAL ID：201202233631346326   Reference number：12A1006007

Effects of Propane on Low Temperature Growth of 3C-SiC Films on Si(111) by Plasma Assisted CVD

プラズマ支援CVDによるSi(111)上の3C-SiC膜の低温成長に対するプロパンの効果

Author (2)： SHIMIZU Hideki (Aichi Univ. Education, Aichi, JPN) ,  WATANABE Takashi (Aichi Univ. Education, Aichi, JPN)
Material： Materials Science Forum  (Mater Sci Forum)
Volume： 717/720  Issue： Pt.1  Page： 181-184  Publication year： 2012 
JST Material Number： D0716B  ISSN： 0255-5476  Document type： Article
Country of issue： Switzerland (CHE)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (5)： プラズマ支援CVD ,  Si ,  3C-SiC ,  低温成長 ,  プロパン