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J-GLOBAL ID：201202274811562890   Reference number：12A0527580

Crystallization of Silicon Films of Submicron Thickness by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing

青色多重レーザダイオードアニーリングによるサブミクロン厚の珪素膜の結晶化

Author (9)： MUGIRANEZA Jean de Dieu (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  SHIRAI Katsuya (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  SUZUKI Toshiharu (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  OKADA Tatsuya (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  NOGUCHI Takashi (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  MATSUSHIMA Hideki (Hitachi Computer Peripherals Co. Ltd, Kanagawa, JPN) ,  HASHIMOTO Takao (Hitachi Computer Peripherals Co. Ltd, Kanagawa, JPN) ,  OGINO Yoshiaki (Hitachi Computer Peripherals Co. Ltd, Kanagawa, JPN) ,  SAHOTA Eiji (Hitachi Computer Peripherals Co. Ltd, Kanagawa, JPN)
Material： Journal of the Korean Physical Society
Volume： 60  Issue： 1  Page： 88-93  Publication year： Jan. 13, 2012 
JST Material Number： T0357A  ISSN： 0374-4884  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Korea, Republic of (KOR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *laser annealing ,  *crystallization ,  silicon ,  RF sputtering ,  *solar cell ,  optical sensor ,  semiconductor laser ,  *film solar cell
Semi thesaurus term： *レーザ結晶化

JST classification (2)： Solar cell  (NC03084O) ,  Applications of lasers  (BD04100V)

Terms in the title (8)： 青色 ,  多重 ,  レーザダイオード ,  アニーリング ,  サブ ,  厚 ,  珪素膜 ,  結晶化