Art

J-GLOBAL ID：201202284149113253   Reference number：12A0097399

A Novel and Efficient Method for the Preparation of Unstable Tetramethylzirconium and Its Application Using a Microflow System

不安定なテトラメチルジルコニウムの調製のための新規効率的方法及びマイクロフローシステムを用いるその利用

Author (4)： UEHATA Koji (Graduate School of Pharmaceutical Sciences, Chiba Univ.) ,  UEHATA Koji (Koei Chemical Co., Ltd.) ,  NISHIDA Mayumi (Koei Chemical Co., Ltd.) ,  NISHIDA Atsushi (Graduate School of Pharmaceutical Sciences, Chiba Univ.)
Material： Chemistry Letters  (Chem Lett)
Volume： 41  Issue： 1  Page： 73-75 (J-STAGE)  Publication year： 2012 
JST Material Number： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： system ,  thermal stability ,  instability ,  chemical synthesis ,  zirconium chloride ,  solvent effect ,  reaction temperature ,  residence time ,  flow velocity ,  chemical vapor deposition ,  zirconocene ,  proton magnetic resonance ,  13C NMR ,  *organozirconium compound ,  alicyclic compound ,  conjugated diene ,  polynuclear aromatic hydrocarbon ,  cyclic ether ,  micro hydraulic system ,  thermal instability
Semi thesaurus term： atomic layer deposition ,  microflow system ,  atomic layer deposition

JST classification (1)： Group 4 and group 5 organic compounds  (CF09054V)

Substance index (8)： Methylethylamine ,  Indene ,  Tetrahydrofuran ,  Methyllithium ,  Tetramethylzirconium(IV) ,  Acetomesitylene ,  2-Mesityl-2-propanol ,  Tetrakis(ethylmethylamino) zirconium(IV)

Reference (34)：

• 1) a) W. Ehrfeld, V. Hessel, H. Löwe, Microreactors: New Technology for Modern Chemistry, Wiley-VCH, Weinheim, 2000.
•  b) P. Watts, C. Wiles, Chem. Commun. 2007, 443.
• 2) a) H. Hisamoto, T. Saito, M. Tokeshi, A. Hibara, T. Kitamori, Chem. Commun. 2001, 2662.
•  b) S. Saaby, K. R. Knudsen, M. Ladlow, S. V. Ley, Chem. Commun. 2005, 2909.
•  c) H. Wakami, J.-i. Yoshida, Org. Process Res. Dev. 2005, 9, 787.

Terms in the title (1)： 調製