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J-GLOBAL ID:201203012066209406

金属デポジションを用いたナノインプリント金型の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 永井 冬紀
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010282292
Publication number (International publication number):2012126113
Application date: Dec. 17, 2010
Publication date: Jul. 05, 2012
Summary:
【課題】40nm以下のパターンピッチのナノインプリント金型を簡便に製造できる方法を提供する。【解決手段】 本発明によるナノインプリント金型の製造では、SiO2層を設けたSi基板に、集束イオンビームを用いて所望の位置に金属を堆積し、この基板を加熱して、堆積した金属を凝集させて、ナノインプリント金型のパターンを形成する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
SiO2層を設けた基板を準備する工程と、 基板上に金型パターンに応じた複数の金属ドットを堆積する堆積工程と、 前記基板を加熱し、堆積した金属を凝集させて、前記ナノインプリント金型のパターンを形成する加熱工程とを有することを特徴とするナノインプリント金型の製造方法。
IPC (3):
B29C 33/38 ,  B29C 59/02 ,  H01L 21/027
FI (3):
B29C33/38 ,  B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D
F-Term (16):
4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202CA09 ,  4F202CA19 ,  4F202CD23 ,  4F202CD24 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ06 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28 ,  5F146AA28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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