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J-GLOBAL ID：201203018335490441
ナノ粒子、ナノ粒子生成方法及びナノ粒子生成装置
西村 芳実
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菱田 茂二
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陶山 光宏
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寺島 千晶
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Applicant, Patent owner：
株式会社栗田製作所
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国立大学法人名古屋大学
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Agent (1)： 三木 久巳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011030065
Publication number (International publication number)：2012167335
Application date： Feb. 15, 2011
Publication date： Sep. 06, 2012
Summary：
【課題】高品質のナノ粒子を造粒でき、しかも安定した粒径制御を可能にしたナノ粒子生成方法、前記ナノ粒子生成方法に基づいて生成したナノ粒子及び前記ナノ粒子生成方法に基づくナノ粒子生成装置を提供することである。【解決手段】金属含有物質を含む溶媒を収容した溶媒反応部1の液中に対向電極対(2、3等)を配置し、バースト化された高電圧高周波パルスV2を対向電極の電極間に印加して電極付近の溶媒を気化し、前記気化により発生させた気泡に液中プラズマPを発生させた後に高電圧高周波パルスV2の印加を停止して液中プラズマPを消滅させ液中プラズマPの発生領域の液温度を降下させる、前記印加及び前記停止の処理期間を1サイクルとして、高電圧高周波パルスV2の前記印加と前記停止を繰り返し行って間欠的に発生させた液中間欠プラズマにより前記金属含有物質の含有金属のナノ粒子を生成することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
金属含有物質を含む溶媒を収容した溶媒反応部の液中に少なくとも一対の対向電極を配置し、高電圧高周波パルスを前記対向電極の電極間に印加して前記対向電極付近の溶媒を気化し、前記気化により発生させた気泡に液中プラズマを発生させた後に前記印加を停止して前記液中プラズマを消滅させ前記液中プラズマの発生領域の液温度を降下させる、前記印加及び前記停止の処理期間を1サイクルとして、前記高電圧高周波パルスの前記印加と前記停止を繰り返し行って間欠的に発生させた液中間欠プラズマにより前記金属含有物質の含有金属のナノ粒子を生成することを特徴とするナノ粒子生成方法。
IPC (3)：
FI (3)：
F-Term (16)：
4K017AA02
, 4K017BA02
, 4K017BA03
, 4K017BA05
, 4K017BB02
, 4K017BB05
, 4K017BB06
, 4K017BB09
, 4K017CA08
, 4K017EF04
, 4K017EJ01
, 4K018BA01
, 4K018BA02
, 4K018BA03
, 4K018BA04
, 4K018BB05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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金属ナノ粒子生成方法および金属ナノ粒子生成装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-186042 Applicant：国立大学法人東京大学, 国立大学法人名古屋大学 -
液中プラズマ発生方法、液中プラズマ発生装置、被処理液浄化装置及びイオン液体供給装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-024084 Applicant：株式会社栗田製作所 -
液体中プラズマ発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-246147 Applicant：PMディメンションズ株式会社
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