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J-GLOBAL ID:201203031971156590
試料を検査するための装置、特に顕微鏡
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (4):
恩田 博宣
, 恩田 誠
, 本田 淳
, 池上 美穂
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2011528230
Publication number (International publication number):2012504226
Application date: Sep. 22, 2009
Publication date: Feb. 16, 2012
Summary:
回折限界の解像度を特徴とする装置、特に顕微鏡であり、異なる状態の間で切替可能な複数の色素分子(UF)で、少なくとも1つの状態が蛍光性であり、その蛍光が、対物レンズ(O)で集光され、光学系を用いて場所分解性検出器上に結像され、試料の少なくとも一部分が回折限界の解像度の逆数よりも大きな分布密度を有する、色素分子(UF)と、試料中のUFの第1部分集合を切り替えるために切替放射を発し、かつ、UFの第1部分集合を励起するために励起放射を発する1つまたは複数の光源とを備え、光路内に、好ましくは検出光路内に、少なくとも部分的に限定された放射極小値を有する光分布(PSF)を検出平面内に生成する位相マスクが設けられているか、または、検出平面内に、ベッセル分布(PSF)を生成するアキシコンが設けられているか、または、照明光路内に、照明分布をパターン化する手段が設けられているか、または、照明光路内に、照明分布をパターン化する手段が設けられているか、または、検出光路内に、試料光をスペクトル分割する手段が設けられているか、または、検出のために、位置感受性センサ(psd)から成るセンサアレイが設けられているか、または、検出光路内に、色依存の光分布(PSF)を検出平面内に生じさせる手段が設けられているか、または、瞳内にまたはその近傍に、アクロマチックビームスプリッタが配置されている。
Claim (excerpt):
回折限界の解像度を特徴とする装置、特に顕微鏡であって、
異なる状態の間で切替可能な複数の色素分子(UF)で、少なくとも1つの状態が蛍光性であり、その蛍光が、対物レンズ(O)で集光され、光学系を用いて場所分解性検出器上に結像され、試料の少なくとも一部分が回折限界の解像度の逆数よりも大きな分布密度を有する、色素分子(UF)と、
該試料中の該UFの第1部分集合を切り替えるために切替放射を発し、かつ、該UFの第1部分集合を励起するために励起放射を発する1つまたは複数の光源とを備え、
光路内に、好ましくは検出光路内に、少なくとも部分的に制限された放射極小値を有する光分布(PSF)を検出平面内に生成する位相マスクが設けられている、装置。
IPC (2):
FI (3):
G01N21/64 E
, G01N21/64 F
, G02B21/00
F-Term (20):
2G043EA01
, 2G043FA02
, 2G043FA06
, 2G043GA01
, 2G043GB01
, 2G043HA01
, 2G043HA09
, 2G043HA15
, 2G043JA02
, 2G043JA04
, 2G043JA05
, 2G043LA03
, 2H052AA03
, 2H052AA09
, 2H052AB24
, 2H052AC04
, 2H052AC10
, 2H052AC27
, 2H052AD34
, 2H052AF14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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光変換可能な光学標識を用いる光学顕微鏡法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2008-513618
Applicant:ハラルドエフ.ヘスス, ロベルトイー.ベトジグ
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光学装置および顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-249320
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
解像度を高めたルミネセンス顕微鏡検査
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2008-521906
Applicant:カールツァイスマイクロイメージングゲーエムベーハー, カールツァイスイェナゲーエムベーハー
-
焦点された光線を発生させる方法及び装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2003-517656
Applicant:アイシスイノベイシヨンリミテツド
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