有毒物質の除染装置及び除染方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：長門侃二 , 越前昌弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010166978
Publication number (International publication number)：2012024385
Application date： Jul. 26, 2010
Publication date： Feb. 09, 2012
Summary：

【課題】被汚染物や除染装置に損傷を与え難く、装置の小型化を図ることができる有毒物質の除染装置及び除染方法を提供する。【解決手段】本発明に係る有毒物質の除染装置1は、有毒物質に汚染された被汚染物2を反応性の酸化剤雰囲気で除染する有毒物質の除染装置であって、被汚染物2を収容する除染室3と、除染室3に酸化剤を蒸気雰囲気で供給する酸化剤供給装置4と、除染室3に酸化力を向上させる添加剤を供給する添加剤供給装置5と、除染室3内の蒸気を酸化剤供給装置4に循環させる循環装置6と、除染室3内を排気する排気装置7と、を有し、循環装置6は、除染処理中に蒸気を循環させ、酸化剤供給装置4は、除染室3内における酸化剤の平均濃度が一定となるように間欠的に酸化剤を供給するように構成されている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

有毒物質に汚染された被汚染物を反応性の酸化剤雰囲気で除染する有毒物質の除染装置であって、前記被汚染物を収容する除染室と、該除染室に酸化剤を蒸気雰囲気で供給する酸化剤供給装置と、前記除染室に酸化力を向上させる添加剤を供給する添加剤供給装置と、前記除染室内の蒸気を前記酸化剤供給装置に循環させる循環装置と、前記除染室内を排気する排気装置と、を有し、前記循環装置は、除染処理中に前記蒸気を循環させ、前記酸化剤供給装置は、前記除染室内における酸化剤の平均濃度が一定となるように間欠的に酸化剤を供給する、ことを特徴とする有毒物質の除染装置。

IPC (2)：

A61L 2/20 , A62D 3/38

FI (5)：

A61L2/20 A , A61L2/20 C , A61L2/20 J , A62D3/38 , A61L2/20 G

F-Term (11)：

4C058AA05 , 4C058AA30 , 4C058BB07 , 4C058DD04 , 4C058DD07 , 4C058DD11 , 4C058EE26 , 4C058JJ14 , 4C058JJ16 , 4C058JJ28 , 4C058JJ29

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

活性化酸化蒸気処理システムおよび方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2003-587498 Applicant：ステリスインコーポレイテッド
無菌環境維持装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-045876 Applicant：三洋電機株式会社
戦争兵器を中和するための活性化蒸着処理
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-513306 Applicant：ステリスインコーポレイテッド, ザユナイテッドステイツオブアメリカアズレプレゼンテッドバイザセクレタリーオブザアーミー

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