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J-GLOBAL ID：201203061452193515
オゾン含有ハイドレートの製造方法及びその装置並びにオゾン含有ハイドレート
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011115529
Publication number (International publication number)：2012240901
Application date： May. 24, 2011
Publication date： Dec. 10, 2012
Summary：
【課題】高濃度のオゾンハイドレートを低圧でしかも氷点下近くで連続的に製造でき、しかもこれを常圧で貯蔵可能なオゾン含有ハイドレートの製造方法及びその装置並びにオゾン含有ハイドレートを提供する。【解決手段】ハイドレート生成器10内に冷却水14を貯留し、その冷却水14中にオゾンガスとキセノン又は炭酸ガスを吹き込み、水をホストとし、オゾンガスとキセノン又は炭酸ガスをゲストガスとした高濃度オゾン含有ハイドレート47を生成し、そのハイドレート生成器10から高濃度オゾン含有ハイドレート47を、-10°C以下に冷却すると共に大気圧まで落圧して、常圧過冷却高濃度オゾン含有ハイドレート47Sを製造するものである。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
ハイドレート生成器内に0°C以下の冷却水を貯留すると共に上記ハイドレート生成器内の圧力を1〜3MPaに保ち、その冷却水中にオゾンガスとキセノン又は炭酸ガスを吹き込み、水をホストとし、オゾンガスとキセノン又は炭酸ガスをゲストガスとした高濃度オゾン含有ハイドレートを生成し、そのハイドレート生成器から高濃度オゾン含有ハイドレートを、-10°C以下に冷却すると共に大気圧まで落圧して、常圧過冷却高濃度オゾン含有ハイドレートを製造することを特徴とするオゾン含有ハイドレートの製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (3)：
4G042AA08
, 4G042CA05
, 4G042CE01
Cited by examiner (6)
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Article cited by the Patent：
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