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J-GLOBAL ID:200903052546333006

ガスハイドレートの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 小川 信一 ,  野口 賢照 ,  斎下 和彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006322069
Publication number (International publication number):2007177233
Application date: Nov. 29, 2006
Publication date: Jul. 12, 2007
Summary:
【課題】ガスハイドレートを脱圧して大気圧下に取り出す過程において、ガスハイドレートの分解を極力抑制する。【解決手段】ガスハイドレート生成工程1と、冷却工程2と、脱圧工程3と、再冷却工程4より成るガスハイドレートの製造方法において、前記冷却工程2におけるガスハイドレート冷却温度Tを、前記ガスハイドレートの平衡温度t1 に補正温度t2 を加算した冷却下限温度t1 +t2 以上で、かつ、氷点(0°C)以下とする。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程、該ガスハイドレート生成工程で生成されたガスハイドレートを冷却する冷却工程、該冷却工程で冷却されたガスハイドレートを大気圧まで減圧する脱圧工程、該脱圧工程で脱圧されたガスハイドレートを保存状態に再冷却する再冷却工程とから成るガスハイドレートの製造方法において、前記冷却工程におけるガスハイドレート冷却温度Tを、前記ガスハイドレートの平衡温度t1 に補正温度t2 を加算した冷却下限温度t1 +t2 以上で、かつ、氷点(0°C)以下とすることを特徴とするガスハイドレートの製造方法。
IPC (4):
C10L 3/06 ,  C07B 63/02 ,  C07C 7/152 ,  C07C 9/04
FI (4):
C10L3/00 A ,  C07B63/02 B ,  C07C7/152 ,  C07C9/04
F-Term (5):
4H006AA02 ,  4H006AD33 ,  4H006BB31 ,  4H006BC51 ,  4H006BD84
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (4)
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