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J-GLOBAL ID：201203074986301962

高分子ゲル及びその製造方法

Inventor： グン 剣萍 ,  黒川 孝幸 ,  中島 祐 ,  佐藤 仁美
Applicant, Patent owner： 国立大学法人北海道大学
Agent (1)： 伊藤 温
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010175795
Publication number (International publication number)：2012036262
Application date： Aug. 04, 2010
Publication date： Feb. 23, 2012
Summary：

【課題】 中性又は弱電解質の第一のモノマーを使用した第一の網目構造体であっても、多量の第二のモノマーを第一の網目構造中に導入できる高分子ゲルの製造方法の提供。【解決手段】 以下の工程を含む、高分子ゲルの製造方法。1)架橋構造を有する第一の網目構造体中に分子ステントを導入する工程;及び2)分子ステントを導入した第一の網目構造体内に第二のモノマーを導入して重合する工程。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

以下の工程を含む、高分子ゲルの製造方法。 1)架橋構造を有する第一の網目構造体中に分子ステントを導入する工程; 及び 2)分子ステントを導入した第一の網目構造体内に第二のモノマーを導入して重合する工程。

IPC (3)：

C08F 2/44 ,  C08F 265/04 ,  C09K 3/00

FI (3)：

C08F2/44 C ,  C08F265/04 ,  C09K3/00 103L

F-Term (11)：

4J011AA05 ,  4J011BA04 ,  4J011PA69 ,  4J011QA06 ,  4J011UA01 ,  4J026AA48 ,  4J026BA08 ,  4J026BA32 ,  4J026BB03 ,  4J026FA09 ,  4J026GA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 高分子ゲルおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-157241   Applicant：国立大学法人北海道大学
• 直鎖状高分子を有する低摩擦ハイドロゲルおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-013617   Applicant：北海道ティー・エル・オー株式会社

Cited by examiner (2)

• 高分子ゲルおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-157241   Applicant：国立大学法人北海道大学
• 直鎖状高分子を有する低摩擦ハイドロゲルおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-013617   Applicant：北海道ティー・エル・オー株式会社