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J-GLOBAL ID:201203081052808970

溶質の濃縮及び位置特定のための装置並びに溶質の濃縮及び位置特定を行う方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 鮫島 睦 ,  田村 恭生 ,  言上 惠一
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2011524508
Publication number (International publication number):2012500992
Application date: Aug. 28, 2009
Publication date: Jan. 12, 2012
Summary:
溶質の濃縮及び位置特定のための装置(1)であって、基板(2)と、該基板(2)から垂直に突出する複数のプリズムリソグラフィー微細構造体(4)と、を有する。微細構造体(4)は、基板(2)が超疎水性となるように周期的に互いに離間されている。
Claim (excerpt):
溶質の濃縮及び位置特定のための装置(1)であって、 基板(2)と、 上記基板(2)から垂直に突出し、上記基板(2)が超疎水性となるように周期的に互いに離間して配置された複数のプリズムリソグラフィー微細構造体(4)と、 を備える装置(1)。
IPC (7):
G01N 21/01 ,  G01N 21/27 ,  G01N 21/64 ,  G01N 21/65 ,  B82Y 20/00 ,  B82Y 15/00 ,  B82Y 40/00
FI (7):
G01N21/01 B ,  G01N21/27 B ,  G01N21/64 E ,  G01N21/65 ,  B82Y20/00 ,  B82Y15/00 ,  B82Y40/00
F-Term (21):
2G043AA03 ,  2G043CA04 ,  2G043DA06 ,  2G043EA01 ,  2G043EA03 ,  2G043FA01 ,  2G043FA02 ,  2G043JA04 ,  2G043KA09 ,  2G059AA05 ,  2G059BB04 ,  2G059CC20 ,  2G059DD04 ,  2G059DD13 ,  2G059EE03 ,  2G059EE07 ,  2G059EE12 ,  2G059FF01 ,  2G059FF03 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • SOFT MATTER, 2008, VOL.4,NO.8, p224-240
  • LANGMIUR, 20051122, VOL.21, 11053-11060

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