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J-GLOBAL ID：201302209968903668   Reference number：13A1723185

ミストCVD法により製膜したAlO_x膜のパッシベーション特性

Author (18)： IGUCHI KOJI (兵庫県大) ,  IGUCHI KOJI (JST-CREST) ,  MIKI SHOHEI (兵庫県大) ,  MIKI SHOHEI (JST-CREST) ,  IMAEDA HIROKI (兵庫県大) ,  IMAEDA HIROKI (JST-CREST) ,  SAKAI CHIKAKO (兵庫県大) ,  SAKAI CHIKAKO (JST-CREST) ,  YOSHIDA HARUHIKO (兵庫県大) ,  YOSHIDA HARUHIKO (JST-CREST) ,  HOTTA YASUSHI (兵庫県大) ,  HOTTA YASUSHI (JST-CREST) ,  OGURA ATSUSHI (明治大) ,  OGURA ATSUSHI (JST-CREST) ,  SATO SHIN'ICHI (兵庫県大) ,  SATO SHIN'ICHI (JST-CREST) ,  ARAFUNE KOJI (兵庫県大) ,  ARAFUNE KOJI (JST-CREST)
Material： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
Volume： 74th  Page： ROMBUNNO.19A-A4-2  Publication year： Aug. 31, 2013 
JST Material Number： Y0055B  ISSN： 2758-4704  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： Aluminum Oxide ,  film production ,  *chemical vapor deposition ,  passivation ,  *passive state film ,  carrier lifetime ,  *mist CVD ,  surface passivation ,  modification ,  *conversion coating film

JST classification (1)： Photoconduction,photoelectromotive force  (BM03050J)

Terms in the title (3)： ミストCVD法 ,  製膜 ,  パッシベーション