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J-GLOBAL ID：201302248152471846   Reference number：13A1451560

酸素濃度を変調させたCo-Ti-O薄膜の磁気抵抗効果

Author (3)： NAKANO MASATOSHI (東京工大 院) ,  SHI SEKI (東京工大 院) ,  NAKAMURA YOSHIO (東京工大 院)
Material： 日本金属学会講演概要(CD-ROM)  (Collected Abstracts of Spring Meeting of the Japan Institute Metals and Materials (CD-ROM))
Volume： 153rd  Page： ROMBUNNO.72  Publication year： Sep. 03, 2013 
JST Material Number： S0988B  ISSN： 2433-3093  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *thin film growth ,  *magnetic thin film ,  Cobalt ,  Titanium ,  Oxygen ,  *evaporated film ,  magnetron sputtering ,  heat treatment ,  additive effect ,  Platinum ,  *magnetic property ,  magnetic reluctance ,  saturation magnetization ,  magnetoresistance effect ,  electrical resistivity ,  DC magnetron sputtering

JST classification (1)： Magnetic materials  (NA04040H)

Terms in the title (6)： 酸素濃度 ,  変調 ,  CO ,  Ti ,  薄膜 ,  磁気抵抗効果