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J-GLOBAL ID：201302274589581781   Reference number：13A0081349

Electron density enhancement of the zinc-oxygen mixture plasma for the advanced ZnO transparent conductive film with low sheet resistance

高機能ZnO透明導電膜のシート抵抗低減に向けた亜鉛-酸素混合プラズマの高密度化

Author (3)： SATO NAOYUKI (茨城大) ,  YOSHIZAKI MASAHIRO (茨城大) ,  IKEHATA TAKASHI (茨城大)
Material： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
Volume： PST-12  Issue： 85-90.92-95.98-106  Page： 63-68  Publication year： Dec. 10, 2012 
JST Material Number： Z0951A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： inductively coupled plasma ,  *ion plating ,  *plasma CVD ,  *thin film growth ,  *transparent conducting thin films ,  sheet resistance ,  plasma density ,  permanent magnet ,  magnetic field effect ,  plasma spectroscopy ,  conductor material ,  *zinc oxide
Semi thesaurus term： ion plating ,  atomic oxygen ,  dense

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (14)：

• (1)馬来国弼他:「透明導電膜の技術」オーム社(2007).
• (2)NIKKEI MICRODEVICES:「究極の太陽電池」,November(2009);Claes G.Granqvist:《Transparent conductors as solar energy materials:A panoramic review》,Solar Energy Materials & Solar Cells 91,pp.1529-1598(2007).
• (3)佐藤直幸:「首都圏北部4大学発新技術説明会」http://jstshingi.jp/abst/p/09/911/4u141.pdf(2009);吉田 善紀 他:「ICP合成によるZnO透明導電膜のプラズマパラメータ依存性」電気学会プラズマ研究会資料PST-10-123/PPT-10-143,pp.75-80(2010).
• (4) Y.Meng et al.,Thin Solid Films 394, pp.219-223 (2001);鯉田崇,藤原裕之,近藤道雄:「In₂O₃系高移動度透明導電膜」,表面科学29,No.1,pp.18-24(2008).
• (5) Tetsuya Hasegawa et al : "High Mobility 80cm²V^-1s^-1 in Polycrystalline Ta-Doped SnO₂Thin Films on Glass Using Anatase TiO₂ Seed Layers", Applied Physics Express 3 (2010) 031102.

Terms in the title (7)： ZnO ,  透明導電膜 ,  抵抗低減 ,  亜鉛 ,  酸素 ,  プラズマ ,  高密度化