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J-GLOBAL ID：201302290572060830   Reference number：13A1758443

Power up: 120 Watt injection-locked ArF excimer laser required for both multi-patterning and 450mm wafer lithography

高出力化: 多重パターン形成と450nmウエハリソグラフィーの両方に必要な120W注入同期ArFエキシマレーザ

Author (9)： ASAYAMA Takeshi (Gigaphoton Inc.) ,  SASAKI Yoichi (Gigaphoton Inc.) ,  NAGASHIMA Takayuki (Gigaphoton Inc.) ,  KUROSU Akihiko (Gigaphoton Inc.) ,  TSUSHIMA Hiroaki (Gigaphoton Inc.) ,  KUMAZAKI Takahito (Gigaphoton Inc.) ,  KAKIZAKI Kouji (Gigaphoton Inc.) ,  MATSUNAGA Takashi (Gigaphoton Inc.) ,  MIZOGUCHI Hakaru (Gigaphoton Inc.)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 8683  Page： 86831G.1-86831G.10  Publication year： 2013 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： high power laser ,  *excimer laser ,  *photolithography ,  injection locking ,  wafer ,  circuit pattern generation ,  laser beam ,  stability ,  *ArF laser
Semi thesaurus term： *immersion lithography

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (7)： 高出力化 ,  多重 ,  パターン形成 ,  ウエハ ,  リソグラフィー ,  注入同期 ,  ArFエキシマレーザ