Pat

J-GLOBAL ID：201303009997838179

荷電粒子線応用装置

Inventor： 大滝 大樹 ,  圓山 百代 ,  太田 洋也
Applicant, Patent owner： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
Agent (1)： ポレール特許業務法人
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010546578
Patent number：5292412
Application date： Jan. 04, 2010
Claim (excerpt)：

【請求項1】荷電粒子を発生する荷電粒子源と、 前記荷電粒子源で発生した前記荷電粒子を複数の荷電粒子線に分離する照射系分離部であって、前記複数の荷電粒子が帯電制御用荷電粒子線となる第1の開口パターンと、前記複数の荷電粒子線が信号取得用荷電粒子線となる第2の開口パターンと、を持つアパーチャーアレイを有する照射系分離部と、 前記複数の荷電粒子線を試料上に照射させる1つ以上のレンズと前記複数の荷電粒子線を前記試料上で走査する走査偏向用偏向器と、前記荷電粒子線と前記照射系分離部との間に設置される第1の偏向器とを含む一次光学系と、 前記複数の荷電粒子線の前記試料上への照射により前記試料上の複数箇所から発生した二次荷電粒子線を個別に検出する信号検出部と、 前記二次荷電粒子線を前記信号検出部に入射させる二次光学系と、 前記試料を載置して移動可能なステージと、 前記複数の荷電粒子線を用い、帯電制御用荷電粒子線を前記試料に照射して前記試料を負帯電する帯電制御用ビーム照射と、前記試料に信号取得用荷電粒子線を照射して前記試料から信号を取得する信号取得用ビーム照射のタイミングを切り替えるよう制御する制御部とを備え、 前記制御部は、前記第1の偏向器を制御して前記荷電粒子を偏向させ、前記第1の開口パターンまたは前記第2の開口パターンの一方を通過させることにより、前記帯電制御用荷電粒子線あるいは前記信号取得用帯電粒子線を形成する、 ことを特徴とする荷電粒子線応用装置。

IPC (4)：

H01J 37/28 ( 200 6.01) ,  H01J 37/24 ( 200 6.01) ,  H01J 37/20 ( 200 6.01) ,  H01J 37/147 ( 200 6.01)

FI (4)：

H01J 37/28 B ,  H01J 37/24 ,  H01J 37/20 H ,  H01J 37/147 B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 電子線応用装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-350839   Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 半導体装置の検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-148936   Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (2)

• 電子線応用装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-350839   Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 半導体装置の検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-148936   Applicant：株式会社日立製作所