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J-GLOBAL ID：200903053273590848

電子線応用装置

Inventor：
谷本 明佳

About 谷本 明佳

, 
太田 洋也

About 太田 洋也

, 
牧野 浩士

About 牧野 浩士

, 
船津 隆一

About 船津 隆一


Applicant, Patent owner：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

About 株式会社日立ハイテクノロジーズ


Agent (1)： 井上 学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006350839
Publication number (International publication number)：2008165990
Application date： Dec. 27, 2006
Publication date： Jul. 17, 2008
Summary：
【課題】 電子線応用装置において、検査を行う一次ビームの良好な集束を保ちつつ、且つスループットを落とすことなく、帯電制御を実現する。【解決手段】 単一の電子源から複数本の一次ビームを形成し、少なくとも一本の一次ビームで試料の帯電を制御し、同時に、これとは別の一次ビームを用いて試料の検査を行う。また、帯電制御用の一次ビームの照射領域と検査用の一次ビームの照射領域に対して、独立に表面電界強度を設定する。また、帯電制御用一次ビームの電流や、帯電制御用一次ビームと検査用一次ビームの間隔を制御する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
試料に対して電子線を照射する照射光学系と、当該電子線の照射により発生する二次荷電粒子を検出する検出光学系と、前記試料を載置する試料台と、当該試料台を移動するステージとを備えた電子線応用装置において、 前記照射光学系は、 前記電子線を、信号取得用電子線と帯電制御用電子線に分離する照射系分離手段と、 当該信号取得用電子線と帯電制御用電子線とを走査偏向する手段とを備え、 前記検出光学系は、 前記信号取得用電子線の照射により発生する第1の二次荷電粒子と、前記信号取得用電子線の照射により発生する第2の二次荷電粒子に分離する検出系分離手段と、 前記第1の二次荷電粒子を検出する二次荷電粒子検出器とを備え 更に、当該二次荷電粒子検出器で検出した信号を処理する検出信号処理装置とを有することを特徴とする電子線応用装置。
IPC (5)：
H01J 37/28 ,  H01L 21/66 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/244 ,  H01J 37/20
FI (5)：
H01J37/28 B ,  H01L21/66 J ,  G01N23/225 ,  H01J37/244 ,  H01J37/20 D
F-Term (27)：
2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA11 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DB18 ,  4M106DH24 ,  4M106DH33 ,  5C001AA03 ,  5C001CC04 ,  5C033NN01 ,  5C033NP01 ,  5C033NP05 ,  5C033NP06 ,  5C033UU03 ,  5C033UU04 ,  5C033UU10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (11)
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Cited by examiner (8)
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