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J-GLOBAL ID：201303010191521181
広帯域離散スペクトル発生装置、及び、その周波数制御方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：
小池 晃
, 伊賀 誠司
, 藤井 稔也
, 野口 信博
, 山口 茂
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2008076556
Publication number (International publication number)：2009229918
Patent number：5099696
Application date： Mar. 24, 2008
Publication date： Oct. 08, 2009
Claim (excerpt)：
【請求項1】 二波長の励起レーザー光を出射するレーザー光源と、
上記レーザー光源から出射された二波長の励起レーザー光が入射される光共振器と、
上記光共振器を通過した二波長の励起レーザー光の光強度を検出し、その検出出力に基づいて、上記レーザー光源から出射される二波長の励起レーザー光の周波数を制御する制御部と、
上記制御部により周波数が制御された上記二波長の励起レーザー光が上記レーザー光源から入射される非線形媒質を含む広帯域離散スペクトル生成用セルとを備え、
上記制御部により、上記レーザー光源から出射される二波長の励起レーザー光の周波数を上記光共振器の共振周波数に周波数ロックし、上記二波長の励起レーザー光の差周波数を上記光共振器のフリースペクトルレンジ(FSR:Free Spectal Range)の整数倍とし、且つ、上記二波長の励起レーザー光の周波数を上記二波長の励起レーザー光の差周波数の整数倍とし、上記広帯域離散スペクトル生成用セルにより、上記二波長の励起レーザー光の上記非線形媒質における差周波数に対応する周波数のコヒーレンスな屈折率変化を誘起して、広帯域離散スペクトルを発生することを特徴とする広帯域離散スペクトル発生装置。
IPC (2)：
G02F 1/37 ( 200 6.01)
, H01S 3/10 ( 200 6.01)
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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