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J-GLOBAL ID:201303011084522775
原子間力顕微鏡装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
谷 義一
, 阿部 和夫
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2008231424
Publication number (International publication number):2010066077
Patent number:5177532
Application date: Sep. 09, 2008
Publication date: Mar. 25, 2010
Claim (excerpt):
【請求項1】 試料表面の表面形状をコンタクトモードで画像化する原子間力顕微鏡装置であって、
前記試料表面と原子間力を介して相互作用する探針を有し、前記原子間力によってたわみを生ずるカンチレバと、
前記カンチレバに向けて第1のレーザ光を入射するレーザ光提供手段と、
前記カンチレバが前記第1のレーザ光を反射することにより発せられた第2のレーザ光を検出する光検出手段と、
前記試料を載せたZピエゾと、
前記試料上で前記試料のX軸方向に前記探針を走査させ、前記探針が、前記試料表面の同一経路を往復走査する際に、往路での走査の速さと復路での走査の速さとを異ならせるXスキャナと、
前記試料表面と前記探針との間の距離を前記Zピエゾに入力電圧を印加することにより制御し、前記第2のレーザ光によりフォトダイオードが受ける光強度の相対変化から前記カンチレバの前記たわみを出力電圧として検出し、
前記出力電圧と、前記入力電圧とから、前記試料表面の表面形状を計測するときに、前記探針が、前記試料表面の同一経路を往復走査する際に、往路での走査でオブザーバにより推定された表面形状を受け取り、復路での走査でフィードフォワード補償信号を出力するコントローラとを備え、
前記オブザーバは、表面形状オブザーバであって、前記表面形状オブザーバにより推定された表面形状を一定時間保持することにより、前記往路での走査で表面形状オブザーバにより推定された表面形状の数と、前記フィードフォワード制御信号に必要とされるデータ点数とが異なっても、前記フィードフォワード学習信号を出力することを特徴とする原子間力顕微鏡装置。
IPC (2):
G01Q 60/36 ( 201 0.01)
, G01Q 10/06 ( 201 0.01)
FI (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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走査型プローブ顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-198871
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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記録方法および情報処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-149635
Applicant:キヤノン株式会社
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特開平2-265155
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高帯域原子間力顕微鏡装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-277583
Applicant:国立大学法人横浜国立大学
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