Pat
J-GLOBAL ID：200903016597689224

高帯域原子間力顕微鏡装置

Inventor：
藤本 博志

About 藤本 博志


Applicant, Patent owner：
国立大学法人横浜国立大学

About 国立大学法人横浜国立大学


Agent (2)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006277583
Publication number (International publication number)：2008096251
Application date： Oct. 11, 2006
Publication date： Apr. 24, 2008
Summary：
【課題】本発明は、高帯域の原子間力顕微鏡装置(AFM)を提供することを課題とする。【解決手段】本発明によれば、閉ループ方式において、AFMで計測する物体の表面形状を推定する外乱オブザーバである表面形状オブザーバ(STO)は、フィードバックループとは独立な開ループで実現され、本発明に係るAFMの帯域は、閉ループ方式の安定性に影響を与えることはないため、フィードバック制御系よりも高帯域化されたAFMを提供することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
試料表面の表面形状を推定する高帯域原子間力顕微鏡装置であって、 前記試料表面と原子間力を介して相互作用する探針を有し、前記原子間力によってたわみ、摩擦力によってゆがみを生ずるカンチレバと、 前記カンチレバに向けて第1のレーザ光を入射するレーザ光提供手段と、 前記カンチレバが前記第1のレーザ光を反射することにより発せられた第2のレーザ光を検出する光検出手段と、 前記試料を載せたピエゾと、 前記試料の変位が一定になるように、前記試料表面と前期探針との間の距離を前記ピエゾに入力電圧を入力することにより制御し、前記第2のレーザ光の強度の相対変化から前記カンチレバの前記たわみと前記ゆがみとを出力電圧として検出し、前記出力電圧から前記試料表面の表面形状を推定するコントローラと、 推定された前記表面形状を記録するデータ記憶手段とを備えたことを特徴とする高帯域原子間力顕微鏡装置。
IPC (2)：
G01N 13/16 ,  G01N 13/10
FI (3)：
G01N13/16 A ,  G01N13/10 C ,  G01N13/16 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM