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J-GLOBAL ID：201303025442186139
金属パターン及び有機電子デバイスとその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
重野 剛
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2006055090
Publication number (International publication number)：2007188854
Patent number：5233074
Application date： Mar. 01, 2006
Publication date： Jul. 26, 2007
Claim (excerpt)：
【請求項1】 基板上に金属パターンを製造する方法において、該基板上に、光により物性変化する材料(以下「光感応性材料」と称す。)を含む層を形成する工程と、該光感応性材料を含む層に光照射することにより該光感応性材料の物性変化のパターンを形成する工程と、該パターン上に金属を積層して金属パターンを形成する工程とを含む金属パターンの製造方法であって、
前記光感応性材料の光による物性変化が、異性化又は相変化であり、
前記光感応性材料が光により異性化する、置換基を有していても良い1,2-ジアリールエテンであり、
該金属パターンが、該置換基を有していても良い1,2-ジアリールエテンを含む層のうち、下記(1)又は(2)の部分の直上に形成されることを特徴とする金属パターンの製造方法。
(1)該層中の置換基を有していても良い1,2-ジアリールエテンが開環状態であり、異性化で閉環状態となった場合には、異性化による閉環状態となった部分
(2)該層中の置換基を有していても良い1,2-ジアリールエテンが、閉環状態であり、光照射による異性化で開環状態となった場合には、異性化による開環状態となった部分以外の閉環状態の部分
IPC (5)：
H05B 33/10 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/22 ( 200 6.01)
, H05B 33/26 ( 200 6.01)
, C09K 9/02 ( 200 6.01)
H05B 33/10
, H05B 33/14 A
, H05B 33/22 Z
, H05B 33/26 Z
, C09K 9/02 B
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