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J-GLOBAL ID:201303035591311146

多孔質シリコン

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人川口國際特許事務所
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2012543911
Publication number (International publication number):2013514252
Application date: Dec. 16, 2010
Publication date: Apr. 25, 2013
Summary:
金属イオンを含む化学エッチング液を使用して多孔質シリコンを製造する方法が、記載される。
Claim (excerpt):
粒子状の元素シリコンを、フッ化水素酸および溶解金属塩を含む化学エッチング水溶液と接触させるステップを含む、多孔質シリコンを製造する方法。
IPC (4):
C01B 33/02 ,  A23L 1/00 ,  A61K 8/25 ,  A61K 47/04
FI (4):
C01B33/02 E ,  A23L1/00 K ,  A61K8/25 ,  A61K47/04
F-Term (41):
4B035LC06 ,  4B035LC16 ,  4B035LG01 ,  4B035LK14 ,  4B035LK19 ,  4C076DD29 ,  4C076FF02 ,  4C076FF31 ,  4C083AB171 ,  4C083AB172 ,  4C083BB23 ,  4C083BB26 ,  4C083CC01 ,  4C083FF01 ,  4G072AA01 ,  4G072BB05 ,  4G072BB15 ,  4G072DD04 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ18 ,  4G072JJ28 ,  4G072LL06 ,  4G072LL07 ,  4G072MM22 ,  4G072MM23 ,  4G072MM24 ,  4G072MM31 ,  4G072NN27 ,  4G072TT01 ,  4G072TT05 ,  4G072TT06 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072UU07 ,  4G072UU15 ,  4G072UU17 ,  4G072UU27 ,  4G072UU30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 口腔衛生組成物
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願2008-507166   Applicant:サイメデイカリミテツド
Article cited by the Patent:
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