グラフェン改質リン酸鉄リチウム正極活物質及びその製造方法、及びリチウムイオン二次電池

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：特許業務法人深見特許事務所
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2012542342
Publication number (International publication number)：2013513904
Application date： Jan. 22, 2010
Publication date： Apr. 22, 2013
Summary：

本発明は、グラフェン改質リン酸鉄リチウム正極活物質、及び該正極活物質を使用したリチウムイオン二次電池に関するものである。前記正極活物質は、グラフェンまたは酸化グラフェン及びリン酸鉄リチウムを水に分散し、攪拌と超音波で均一に混合し、乾燥させて、グラフェンや酸化グラフェン複合リン酸鉄リチウム材料を得た後、高温アニールにより最終的にグラフェン改質リン酸鉄リチウム正極活物質を得る。前記リチウムイオン二次電池は従来の炭素材コーティング及び導電性高分子ドーピングなどによるリン酸鉄リチウム材に比べて、高容量、優れた充放電サイクル性能、長寿命及び高サイクル安定性の特性を有する。

Claim (excerpt)：

正極活物質がグラフェン改質リン酸鉄リチウム材であって、グラフェンとリン酸鉄リチウムの質量比が1/30〜1/10であることを特徴とするグラフェン改質リン酸鉄リチウム正極活物質。

IPC (9)：

H01M 4/58 , H01M 4/36 , H01M 10/056 , H01M 10/052 , H01M 4/587 , H01M 4/38 , H01M 4/48 , C01B 25/45 , C01B 31/02

FI (10)：

H01M4/58 , H01M4/36 A , H01M10/0569 , H01M10/0568 , H01M10/052 , H01M4/587 , H01M4/38 Z , H01M4/48 , C01B25/45 Z , C01B31/02 101Z

F-Term (53)：

4G146AA01 , 4G146AA15 , 4G146AB07 , 4G146AD17 , 4G146AD23 , 4G146BA02 , 4G146BC32B , 4G146BC43 , 4G146BC47 , 5H029AJ02 , 5H029AJ05 , 5H029AJ06 , 5H029AK01 , 5H029AL01 , 5H029AL02 , 5H029AL06 , 5H029AL07 , 5H029AL08 , 5H029AL11 , 5H029AL12 , 5H029AM02 , 5H029AM03 , 5H029AM04 , 5H029AM05 , 5H029AM07 , 5H029CJ02 , 5H029CJ08 , 5H029CJ14 , 5H029HJ01 , 5H029HJ14 , 5H050AA02 , 5H050AA07 , 5H050AA12 , 5H050BA17 , 5H050CA01 , 5H050CB01 , 5H050CB02 , 5H050CB07 , 5H050CB08 , 5H050CB09 , 5H050CB11 , 5H050CB12 , 5H050CB19 , 5H050DA02 , 5H050EA08 , 5H050EA24 , 5H050GA02 , 5H050GA05 , 5H050GA10 , 5H050HA01 , 5H050HA02 , 5H050HA14 , 5H050HA20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

リチウムイオン二次電池の正極材、およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-228539 Applicant：国立大学法人名古屋大学, トヨタ自動車株式会社, NUエコ・エンジニアリング株式会社
充電式リチウム電池用のカソード活性材料としてのリチウム金属ホスフェート/炭素ナノコンポジット
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2011-521664 Applicant：ダウグローバルテクノロジーズエルエルシー
無機物粒子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-268170 Applicant：国立大学法人東京工業大学

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