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J-GLOBAL ID:201303040425092022
磁気抵抗効果素子、磁界検出器、電流検出器、磁気抵抗効果素子の製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
曾我 道治
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
, 大宅 一宏
, 上田 俊一
, 吉田 潤一郎
, 飯野 智史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012100187
Publication number (International publication number):2013229444
Application date: Apr. 25, 2012
Publication date: Nov. 07, 2013
Summary:
【課題】ヒシテリシスを抑制した高精度でかつ高感度な特性と、製造と集積化の容易さを両立した磁気抵抗効果素子等を提供する。【解決手段】膜面に対して垂直方向を磁化容易軸とする強磁性層からなる自由層(8)と、トンネル絶縁層(9)と、前記トンネル絶縁層を介して前記自由層と対向する膜面方向に磁化した強磁性層からなる固着層(10)と、が積層され、外部から磁界を印加しない状態において前記自由層と前記固着層の磁化の膜面への投影成分が互いに直交することを特徴とする磁気抵抗効果素子。【選択図】図1
Claim (excerpt):
膜面に対して垂直方向を磁化容易軸とする強磁性層からなる自由層と、
トンネル絶縁層と、
前記トンネル絶縁層を介して前記自由層と対向する膜面方向に磁化した強磁性層からなる固着層と、
が積層され、
外部から磁界を印加しない状態において前記自由層と前記固着層の磁化の膜面への投影成分が互いに直交することを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (7):
H01L 43/08
, H01L 43/10
, H01L 43/12
, G01R 33/09
, H01F 10/16
, H01F 10/30
, H01F 41/18
FI (8):
H01L43/08 Z
, H01L43/08 M
, H01L43/10
, H01L43/12
, G01R33/06 R
, H01F10/16
, H01F10/30
, H01F41/18
F-Term (32):
2G017AA01
, 2G017AA10
, 2G017AD55
, 2G017BA05
, 2G017BA09
, 5E049AA04
, 5E049BA12
, 5E049BA16
, 5E049BA30
, 5E049CB01
, 5E049DB14
, 5E049GC01
, 5F092AA01
, 5F092AB01
, 5F092AC12
, 5F092AD05
, 5F092AD22
, 5F092BB04
, 5F092BB05
, 5F092BB17
, 5F092BB22
, 5F092BB23
, 5F092BB34
, 5F092BB35
, 5F092BB36
, 5F092BB43
, 5F092BB55
, 5F092BC04
, 5F092BC07
, 5F092CA02
, 5F092CA22
, 5F092CA26
Patent cited by the Patent:
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