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J-GLOBAL ID:201303054199024893

短パルス光発生装置および方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 山川 政樹 ,  山川 茂樹 ,  小池 勇三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011162949
Publication number (International publication number):2013025284
Application date: Jul. 26, 2011
Publication date: Feb. 04, 2013
Summary:
【課題】パルス幅が200フェムト秒以下で、パルス繰り返し周波数が高い短パルス光の発生を可能とする。【解決手段】短パルス光発生装置は、任意の中心光周波数をもつCW光源1と、CW光源1からの連続レーザー光を位相変調する位相変調手段2と、位相変調手段2からの光パルスを間引いてピークパワーを高める光ゲート5と、光ゲート5を通過した光パルスを増幅し、光増幅器6内での非線形効果によって光スペクトル帯域を拡大した広帯域光を発生させる光増幅器6と、光増幅器6によって増幅された光パルスを圧縮する分散付与手段7とを備える。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
任意の中心光周波数をもつ連続レーザー光源と、 この連続レーザー光源からの連続レーザー光を位相変調する位相変調手段と、 この位相変調手段からの光パルスを間引く光ゲートと、 この光ゲートを通過した光パルスを増幅する光増幅手段と、 この光増幅手段によって増幅された光パルスを圧縮する第1の分散付与手段とを備えることを特徴とする短パルス光発生装置。
IPC (2):
G02F 1/35 ,  G02F 1/01
FI (2):
G02F1/35 ,  G02F1/01
F-Term (15):
2H079AA02 ,  2H079BA01 ,  2H079BA03 ,  2H079CA11 ,  2H079EA05 ,  2H079KA11 ,  2H079KA18 ,  2H079KA20 ,  2K002AA04 ,  2K002AB27 ,  2K002AB33 ,  2K002BA02 ,  2K002CA15 ,  2K002DA10 ,  2K002HA16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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