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J-GLOBAL ID:201303056610813228

成膜装置及び成膜方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 西村 竜平 ,  佐藤 明子
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2005333346
Publication number (International publication number):2007138247
Patent number:4708167
Application date: Nov. 17, 2005
Publication date: Jun. 07, 2007
Claim (excerpt):
【請求項1】 基板を内部に収容する成膜室と、その基板から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室内に液体状態で噴射する噴射弁と、を備えてなり、 前記噴射弁に設けられた噴射孔の横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど徐々に拡開し、出口近傍において少なくとも細長い帯状をなすように構成されている成膜装置。
IPC (2):
C23C 16/455 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01)
FI (2):
C23C 16/455 ,  H01L 21/31 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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