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J-GLOBAL ID:201303072843418081

2安定抵抗値取得装置及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 山川 政樹 ,  山川 茂樹 ,  小池 勇三
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2010066138
Publication number (International publication number):2010187004
Patent number:5189613
Application date: Mar. 23, 2010
Publication date: Aug. 26, 2010
Claim (excerpt):
【請求項1】 基板の上に形成されて少なくとも2つの金属を含んだ金属酸化物から構成された所定の厚さの第1金属酸化物層と、 この第1金属酸化物層の一方の面に接して形成された第1電極と、 前記第1金属酸化物層の他方の面に接して形成された第2電極と、 前記基板の上に形成された非晶質状態の非晶質層と、 この非晶質層の上に形成されて結晶状態の導電性材料から構成された前記第1電極,この第1電極の上に形成された前記第1金属酸化物層,及びこの第1金属酸化物層の上に形成された前記第2電極より構成された複数の素子と、 これら素子の間の前記非晶質層の上に接して形成されて前記金属酸化物から構成された分離層と を少なくとも備え、 前記分離層により複数の前記素子が分離され、 前記金属酸化物は、印加された電気信号により抵抗値が変化することを特徴とする2安定抵抗値取得装置。
IPC (3):
H01L 27/105 ( 200 6.01) ,  H01L 49/00 ( 200 6.01) ,  H01L 45/00 ( 200 6.01)
FI (3):
H01L 27/10 448 ,  H01L 49/00 Z ,  H01L 45/00 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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