放射性同位元素製造装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：長谷川芳樹 , 黒木義樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012112352
Publication number (International publication number)：2013238515
Application date： May. 16, 2012
Publication date： Nov. 28, 2013
Summary：

【課題】複数の種類のRIを効率よく製造できる放射性同位元素製造装置を提供すること。【解決手段】荷電粒子線が通過する荷電粒子線通路200中に、荷電粒子線のエネルギーを減衰させる減衰部10を設ける。また、この減衰部10において、荷電粒子線のエネルギーの減衰量を変更可能とする。そして、減衰部10において、荷電粒子線のエネルギーの減衰量を所望のRIの種類に合わせて変更することにより、ターゲットLに照射する荷電粒子線のエネルギーをRIの種類毎に適した値に調節する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

ターゲットに荷電粒子線を照射することにより放射性同位元素を製造する放射性同位元素製造装置であって、前記ターゲットを収容するためのターゲット収容部と、前記ターゲット収容部に向かう前記荷電粒子線を通過させる荷電粒子線通路と、前記荷電粒子線通路中に配置され、前記荷電粒子線が透過する際に当該荷電粒子線のエネルギーを減衰させる減衰部と、を備え、前記減衰部は、前記荷電粒子線の前記エネルギーの減衰量を変更可能とされている、放射性同位元素製造装置。

IPC (3)：

G21G 1/10 , G21K 3/00 , G21K 5/00

FI (3)：

G21G1/10 , G21K3/00 W , G21K5/00 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

加速器利用システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-284946 Applicant：株式会社日立製作所
イオンビーム走査システム及び該システムの操作方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-600278 Applicant：ジーエスアイゲゼルシャフトフュアシュベールイオーネンフォルシュンクエムベーハー
粒子線治療装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-068033 Applicant：株式会社日立製作所

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