Pat
J-GLOBAL ID:201303075987760956
熱サイクル装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
上柳 雅誉
, 須澤 修
, 宮坂 一彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011218973
Publication number (International publication number):2013079834
Application date: Oct. 03, 2011
Publication date: May. 02, 2013
Summary:
【課題】チップ上で液滴を移動させることにより、効率的な熱サイクルを当該液滴に施すことのできる熱サイクル装置を提供する。【解決手段】本発明にかかる熱サイクル装置は、液滴を載置する載置面を有するチップを装着する装着部と、前記液滴が受ける重力加速度の前記載置面に対して平行な成分と前記液滴の質量の積とが、前記載置面に前記液滴が載置された際の静止摩擦力よりも大きくなるように、前記装着部を所定方向に傾斜させる傾斜機構と、前記所定方向に温度分布を有するように前記チップの前記載置面を温度制御する温度制御部と、を備える。【選択図】図4
Claim (excerpt):
液滴を載置する載置面を有するチップを装着する装着部と、
前記液滴が受ける重力加速度の前記載置面に対して平行な成分と前記液滴の質量との積が、前記載置面に前記液滴が載置された際の静止摩擦力よりも大きくなるように、前記装着部を所定方向に傾斜させる傾斜機構と、
前記所定方向に温度分布を有するように前記チップの前記載置面を温度制御する温度制御部と、
を備える、熱サイクル装置。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (10):
2G058BA02
, 2G058BB26
, 2G058HA01
, 4B029AA07
, 4B029AA23
, 4B029BB20
, 4B029CC01
, 4B029CC03
, 4B029CC08
, 4B029FA15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
解析用デバイス、SNPsの同定用デバイス、液体供給装置、検査デバイス、温度処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-007487
Applicant:株式会社デバイス・ナノテク・リサーチ・インスティチュート
-
液体中の検体測定方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-249094
Applicant:エフ.ホフマン-ラロシュアーゲー
-
微量反応追跡装置および反応方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-292142
Applicant:有限責任中間法人オンチップ・セロミクス・コンソーシアム
-
化学分析装置及び分析デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-014493
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
核酸増幅装置、核酸増幅容器及び核酸増幅方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-042608
Applicant:東洋紡績株式会社
-
多数の温度で生化学的又は化学的な反応を実施する方法及び装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2008-511321
Applicant:ナノリティックス・インコーポレイテッド, デューク・ユニバーシティ
-
液滴操作装置および液滴操作方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-341008
Applicant:株式会社島津製作所
-
核酸増幅方法および核酸増幅装置、ならびに核酸増幅用チップ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-012880
Applicant:セイコーエプソン株式会社
Show all
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page