欠陥検査装置、欠陥検査方法及びプログラム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：磯野道造 , 多田悦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012032336
Publication number (International publication number)：2013167596
Application date： Feb. 17, 2012
Publication date： Aug. 29, 2013
Summary：

【課題】検査対象物の欠陥の有無を適切に判定することができる欠陥検査装置、欠陥検査方法及びプログラムを提供する。【解決手段】検査対象物の画像情報に対して2値化処理を行い、欠陥候補の領域情報を取得する領域情報取得部103と、欠陥候補の位置を算出する位置算出部105aと、欠陥候補の面積を算出する面積算出部104と、欠陥候補の特徴ベクトルを抽出する領域を決定する特徴ベクトル抽出領域決定部105bと、欠陥候補の特徴ベクトルを抽出する特徴ベクトル抽出部107と、特徴ベクトル抽出部107によって抽出されるそれぞれの特徴ベクトルと、予め与えられる境界条件とを比較することによって欠陥候補の種類を判別する種類判別部108と、欠陥候補の種類と、位置と、面積とのそれぞれを、予め与えられている判別基準と比較することによって検査対象物の欠陥の有無を判定する欠陥判定部110と、を備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

検査対象物の欠陥の有無を、前記検査対象物の画像情報に基づいて検査する欠陥検査装置であって、外部から入力される前記検査対象物の画像情報に対して2値化処理を行うことによって、欠陥候補に含まれる画素の座標値を抽出し、欠陥候補ごとの識別情報であるラベリング値と前記座標値とを対応付けた欠陥候補の領域情報を取得する領域情報取得手段と、前記領域情報取得手段によって取得される前記欠陥候補の領域情報に基づいて、欠陥候補ごとの位置を重心座標値として算出する位置算出手段と、前記領域情報取得手段によって取得される前記欠陥候補の領域情報に基づいて、欠陥候補ごとの面積を算出する面積算出手段と、前記領域情報取得手段によって取得される前記欠陥候補の領域情報に基づいて、欠陥候補ごとの特徴ベクトルを抽出する領域を決定する特徴ベクトル抽出領域決定手段と、前記特徴ベクトル抽出領域決定手段によって決定される前記領域において、前記2値化処理前の画像情報に対して高次局所自己相関処理を行い、前記欠陥候補ごとの特徴ベクトルを抽出する特徴ベクトル抽出手段と、前記特徴ベクトル抽出手段によって抽出されるそれぞれの特徴ベクトルと、予め与えられる境界条件とを比較することによって、前記欠陥候補の種類を判別する種類判別手段と、前記種類判別手段によって判別される欠陥候補の種類と、前記位置算出手段によって算出される欠陥候補の位置と、前記面積算出手段によって算出される欠陥候補の面積とのそれぞれを、予め与えられる判別基準と比較することによって前記検査対象物の欠陥の有無を判定する欠陥判定手段と、を備えることを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (4)：

G01N 21/88 , G01B 11/30 , G01B 11/28 , G06T 1/00

FI (4)：

G01N21/88 J , G01B11/30 , G01B11/28 H , G06T1/00 300

F-Term (42)：

2F065AA03 , 2F065AA49 , 2F065AA58 , 2F065BB13 , 2F065CC02 , 2F065DD06 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065QQ04 , 2F065QQ21 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065QQ33 , 2F065QQ34 , 2F065QQ41 , 2F065QQ43 , 2F065RR07 , 2G051AA90 , 2G051AB01 , 2G051AB03 , 2G051AB07 , 2G051CA04 , 2G051EA09 , 2G051EA11 , 2G051EA16 , 2G051EB01 , 2G051EB05 , 2G051EC01 , 2G051ED01 , 5B057AA01 , 5B057DA03 , 5B057DA08 , 5B057DA12 , 5B057DB02 , 5B057DB08 , 5B057DB09 , 5B057DC04 , 5B057DC06 , 5B057DC14 , 5B057DC36

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

パターン検査装置およびパターン検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-283003 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
ウェーハ欠陥検査装置及びウェーハ欠陥検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-109520 Applicant：株式会社SUMCO
欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-330894 Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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