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J-GLOBAL ID：201402222615729838   Reference number：14A0363417

Crack-healing behavior induced by oxidation in SiN/SiC nanolaminated films

SiN/SiCナノ積層膜中の酸化で誘導された亀裂回復動作

Author (4)： NAKATANI Masanori ,  NISHIMURA Junki ,  HANAKI Satoshi ,  UCHIDA Hitoshi
Material： Thin Solid Films
Volume： 556  Page： 68-73  Publication year： Apr. 01, 2014 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *silicon nitride ,  *silicon carbide ,  *multilayer film ,  laminate structure ,  *crack ,  *restoration ,  *ion beam deposition ,  heating ,  *heat treatment ,  compound semiconductor ,  semiconductor thin film
Semi thesaurus term： multilayer ,  ナノ積層構造 ,  亀裂回復

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (7)： SiN ,  SiC ,  積層膜 ,  酸化 ,  誘導 ,  亀裂 ,  回復