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J-GLOBAL ID：201402244398494294   Reference number：14A0155572

高精度X線光学素子のためのコーティング膜の開発

Author (8)： KOYAMA TAKAHISA (JASRI/SPring-8) ,  DOSEN HIROSHI (JASRI/SPring-8) ,  YUMOTO HIROKATSU (JASRI/SPring-8) ,  KIN SHOU (大阪大) ,  MATSUYAMA SATOSHI (大阪大) ,  YAMAUCHI KAZUTO (大阪大) ,  YABASHI MAKINA (理研) ,  OHASHI HARUHIKO (JASRI/SPring-8)
Material： 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集  (日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム)
Volume： 27th  Page： 74  Publication year： Jan. 11, 2014 
JST Material Number： L1310A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *magnetron sputtering ,  film thickness ,  optics ,  film ,  throughput ,  beam ,  *reflecting mirror ,  multilayer film ,  DC magnetron sputtering ,  X-ray nano beam ,  X-ray optics ,  multilayer mirror
Semi thesaurus term： coating film ,  *supermirror ,  high throughput ,  multilayer mirror

JST classification (2)： X-ray instruments and techniques  (BA02060D) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (4)： X線 ,  光学素子 ,  コーティング膜 ,  開発