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J-GLOBAL ID：201402287409108171   Reference number：14A1321400

反応現像型感光性ポリマーによるポジ型およびネガ型微細パターン形成

Author (1)： OYAMA TOSHIYUKI (横浜国大 大学院工学研究院)
Material： 科学と工業  (Science and Industry)
Volume： 88  Issue： 11  Page： 405-414  Publication year： Nov. 20, 2014 
JST Material Number： F0106A  ISSN： 0368-5918  CODEN： KKGOAG  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *reactivity ,  *photopolymer ,  *pattern formation ,  *photoresist ,  polyimide ,  polycarbonate ,  end group ,  functionalization ,  polyarylate ,  *engineering plastic ,  carboxylic acid ,  nucleophilic reagent ,  acyl group ,  nucleophilic substitution reaction ,  *micro-patterning
Semi thesaurus term： *positive type photoresist ,  *negative type resist

JST classification (2)： Photochemistry in general  (CB08010U) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (36)：

• "Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics", ACS Symposium Series 874, Q. Lin, R. A. Pearson, J. C. Hedrick (Eds.), (2004, American Chemical Society, Washington DC).
• "Micro- and Nanopatterning Polymers", ACS Symposium Series 706, H. Ito, E. Reichmanis, O. Nalamasu, T. Ueno (Eds.), (1998, American Chemical Society, Washington DC).
• 池田章彦, 水野晶好 著, "初歩から学ぶ感光性樹脂", (2002, 工業調査会).
• 福川健一, 上田 充, 高分子論文集, 63, 561 (2006).
• K. Fukukawa, M. Ueda, Polym. J., 40, 281 (2008).

Terms in the title (4)： 現像 ,  感光性ポリマー ,  ネガ ,  微細パターン形成