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J-GLOBAL ID：201402289551133380   Reference number：14A0297162

Shot count reduction for non-Manhattan geometries: concurrent optimization of data fracture and mask writer design

非マンハッタンジオメトリのためのショット数削減:データ分割とマスクライター設計の同時最適化

Author (8)： CINQUE Russell (JEOL USA, CA, USA) ,  KOMAGATA Tadashi (JOEL Ltd., Tokyo, JPN) ,  KIUCHI Taiichi (JOEL Ltd., Tokyo, JPN) ,  BROWNING Clyde (Aselta Nanographics, Grenoble, FRA) ,  SCHIAVONE Patrick (JOEL Ltd., Tokyo, JPN) ,  PETRONI Paolo (Aselta Nanographics, Grenoble, FRA) ,  MARTIN Luc (Aselta Nanographics, Grenoble, FRA) ,  QUAGLIO Thomas (Aselta Nanographics, Grenoble, FRA)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 8880  Page： 88801F.1-88801F.8  Publication year： 2013 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *electron beam lithography ,  equipment ,  beam ,  fidelity ,  surface roughness ,  time ,  algorithm
Semi thesaurus term： line-edge roughness ,  *variable profile beam ,  fidelity ,  electron beam lithography ,  electron beam lithography system ,  *exposure time

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： ショット数 ,  マスク ,  設計 ,  同時最適化