Art

J-GLOBAL ID：201402296645815015   Reference number：14A0166522

Thickness Distribution of Metal Films by Magnetron Sputtering (II) -Effect of the Distance between the Target and Substrate and the Erosion Distribution-

マグネトロンスパッタ法による金属膜の膜厚分布(II)-ターゲットと基板間の距離およびエロージョン分布の効果-

Author (5)： YAMAZAKI TOSHINARI (富山大学大学院理工学研究部) ,  KIDA TAKAYUKI (富山大学大学院理工学教育部) ,  YOSHIZAWA TOSHIO (富山大学大学院理工学研究部) ,  KIKUTA TOSHIO (富山大学大学院理工学研究部) ,  YAMAMOTO TAKAKI (富山大学大学院理工学教育部)
Material： Journal of the Vacuum Society of Japan  (真空)
Volume： 56  Issue： 9  Page： 382-385 (J-STAGE)  Publication year： 2013 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 1882-2398  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *magnetron sputtering ,  metallic thin film ,  *carbon ,  *copper ,  *platinum ,  *angle ,  *parameter ,  *distribution ,  target ,  substrate(plate) ,  distance ,  wear
Semi thesaurus term： *放出角度 ,  *film thickness distribution ,  erosion

JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Reference (9)：

• 1) A. Sakaya, T. Yamazaki, T. Kikuta, T. Yoshizawa, H. Hirate and T. Kida: J. Vac. Soc. Jpn., 54 (2011) 184.
• 2) T. Yamazaki and T. Yoshizawa: Shinku, 49 (2006) 547.
• 3) M. Stepanova and S.K. Dew: J. Vac. Sci. Technol. A, 19 (2001) 2805.
• 4) Y. Yamamura, T. Takiguchi and M. Ishida: Radiat. Eff. Defects Solids, 118 (1991) 237.
• 5) J. J. Hanak, H. W. Lehman and P. K. Wehner: J. Appl. Phys., 43 (1972) 1666.

Terms in the title (6)： マグネトロンスパッタ法 ,  金属膜 ,  膜厚分布 ,  ターゲット ,  エロージョン ,  分布